荷兰芯片禁令中最后的一个“漏洞”：光刻机，能支持7nm工艺

紧随美国、日本，近日荷兰终于也发布了芯片禁令，并表示将于2023年9月1日正式生效。

如之前预计的一样，荷兰的芯片禁令，主要针对的对象为先进确实为先进的芯片制造技术，包括先进的沉积设备和浸润式光刻系统等。

从具体的条款来看，任何与EUV有关的设备全部卡死。甚至是在禁令发布之前已经销售出去光刻机，目前已经在正常运行的，但只要是禁令中不允许的，后续的维修、保养等，都需要许可证。

荷兰官方表示，这个禁令可以解决当前政策下“最重要的漏洞”，同时也将尽可能不扰乱全球芯片生产。

不过，在这个禁令之中，其实还是有一个“漏洞”的，那就是荷兰规定可以销售的光刻机中，还是有一台，能够支持到7nm工艺，这个堪称最后的“漏洞”了，因为其它所有与7nm相关的一切技术、设备都卡住了。

按照荷兰的规则，光刻机中，具有以下任一项或两项标准的，就不能够出口，需要许可证书，这两个标准是

1、光源的波长短于193nm，小于193nm波长的光刻机，目前只有EUV光刻机，所以EUV是禁止的。

2、光源的波长等于或大于193nm时，如果能够产生具有45nm或更小的可分辨特征尺寸（MRF）的图案，同时小于或等于1.50nm的最大专用卡盘覆盖（DCO）值。

这里大家注意的是条件是并列的，采用193nm波长光源，分辨率要小于45nm，同时DCO值小于1.5nm。

按照ASML的光刻机参数，目前在售的三种浸润式光刻机中TWINSCAN NXT:2050Di、TWINSCAN NXT:2000i是满足以上三个条件的，不能出口。

但NXT1980Di的分辨率为38纳米左右，是小于45nm的，但是其DCO值是1.6nm，大于1.5nm了，所以NXT1980系列依然可以不受出口限制影响。

所以NXT1980Di是目前国内能够买到最先进的光刻机，其它的比NXT1980Di先进的都不能购买。

那么NXT1980Di能生产多少nm的芯片？NXT:1980Di采用的是193nm的光源，但经过一层水后，等效为134nm波长的光源，其分辨率（MRF）在38nm左右，每小时的生产晶圆数量为275wph，数值孔径为1.35NA。

在实际应用中，可以用于生产7nm芯片，按照媒体的报道称，台积电的第一代7nm工艺就是基于 NXT:1980Di 实现的，后来才升级为EUV 7nm工艺。

所以这是唯一的漏洞了，因为这台光刻机最高可支持7nm，但大多数情况下也生产28nm、14nm芯片，所以没被全面卡死。

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