上海新阳联手德国贺利氏科技集团 共同开发半导体光刻胶

继彤程新材(603650)之后，上海新阳(300236)也开始联手外商开发半导体光刻胶。

12月17日晚间，上海新阳披露与Heraeus（贺利氏科技集团）签署了《合作备忘录》，双方计划共同开发半导体行业用光刻胶产品及相关材料；合作期限自双方签署之日起3年。公司签署该协议旨在完善光刻胶供应链，为光刻胶项目的开展提供材料和技术保障。

上海新阳表示，作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商，公司自立项进行光刻胶项目研发以来，目标为突破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为发展目标，在ArF干法、KrF 厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破，部分产品已经拿到订单；合作方Heraeus业务涵盖环保、电子、 健康和工业应用等领域， 2020年财年，Heraeus的总销售收入为315亿欧元。

对于本次与Heraeus签署本协议，上海新阳表示双方合作旨在完善光刻胶供应链，为光刻胶项目的开展提供材料和技术保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于加速落实公司发展战略，提高公司可持续发展能力。

记者注意到，Heraeus系德国的全球化的家族式投资，旗下化学材料板块开创了产品PEDOT（商品名CleviosTM）为导电聚合物树立了行业标准，公司超高纯度特用型化学品是半导体、显示屏、电子和航天航空领域的关键材料。

目前上海新阳集成电路制造用高端光刻胶产品正在开发中，其中，公司自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证，并成功取得订单，光刻胶项目取得重大突破。另外，光刻机作为光刻胶研发的重要设备，上海新阳采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于 ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，用于ArF浸没式光刻胶研发的ASML XT 1900 Gi型光刻机。

今年上半年，上海新阳完成定增7.82亿元以及发行中期票据1亿元，用于高端光刻胶、蚀刻液等项目投资，累计投入光刻机项目募资1.53亿元。不过，今年前三季度上海新阳增收不增利，净利润实现8492万元，同比下降约一半。公司表示系中芯国际股票股份价格波动导致的浮盈减少。

同日，热门光刻胶概念股彤程新材也在投资者平台上表示，将通过公司全资子公司上海彤程电子材料有限公司在上海化学工业区内使用自筹资金约7亿元，投资建设“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”，项目预计于2023年末建设完成。

值得注意的是，11月份彤程新材旗下主要负责光刻胶开发的北京科华微电子材料有限公司也与杜邦电子宣布开展合作计划，双方围绕 “先进光刻胶”和“其它光刻材料”签署了战略合作协议，为中国集成电路芯片制造商提供高性能光刻材料。对于联合欧美巨头合作，业内人士表示，将会加快国内半导体光刻胶进度，但也存在技术路径依赖的担忧。

据了解，中国光刻胶市场基本由外资企业占据，高分辨率的KrF和ArF光刻胶核心技术基本被日本和美国企业所垄断，产品也基本出自日本和美国公司，包括杜邦、JSR株式会社、信越化学、东京应化工业、Fujifilm，以及韩国东进等企业，外资企业也在积极布局国内光刻胶市场。

JSR（上海）技术总监皇甫俊日前参加活动中表示，为了应对中国大陆市场的需求，JSR不但把显示事业部搬到上海，而且也把部分材料放到国内常熟工厂生产。另外，目前中国有不少企业在加大材料开发的力度，JSR会逐渐与中国大陆一些上游原材料供应商进行洽谈合作，以应对市场的激烈竞争。