中国半导体行业10大光刻胶企业

光刻胶又叫光致抗蚀剂，制造一块芯片往往要对硅片进行数十次光刻，除了用到光刻机，还要添加光刻胶作为抗腐蚀涂层。这是一种高频刚需的材料，光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。

说到材料就进入了今天的主题，我们不得不接受一个残酷的现实，中国大陆不仅造不出光刻机、光刻胶领域也被卡脖子了。

今年五月份，日本对中国光刻胶提出了断供，直接导致国内多家晶圆厂将会面临大缺货的处境，按照工艺的先进程度，光刻胶依次分为G线、I线、KRFARFUV5种，日本此次拟对中国大陆断供的是KRF光刻胶，ARF光刻胶的制造难度是最高的，是14纳米七纳米芯片制造过程中不可或缺的原材料。

不过，这也是目前国内能够大规模量产的最先进的一种，但自给率也才不过5%，ARFUV则完全依赖进口。

其实，早在5月30日，南大光电就已经发布公告称，公司自主研发的ARF光刻胶产品通过客户认证，具备55纳米工艺要求，南大光电成立于2000年12月，是以南京大学国家863计划研究成果作为技术支持的中国高纯金属有机化合物欧元的产业化基地。

目前除了南大光电，国内还有不少企业都加入了研发KRF级别以上光刻胶的队伍中来。

比如徐州博康彤程新材，上海新阳半导体行业想要做到真正强大，不仅需要突破，制造端的技术限制，更要在原材料的供给上，不要拉后腿，只有这样才能做到在各种危机面前不受他人牵制，能够独立自主地研发下去。

所以发展半导体材料也是重中之重，半导体设备是物理的世界材料，是化学的天堂，我们在为光刻辅助材料的国产化突破欣喜之余，也应该清醒地认识到中国与日本在材料领域的巨大差距，取长补短，积极进取，

接下来让我们看一下是哪10家光刻胶企业吧！

一、晶瑞电材：

公司作为国内高新技术企业，在微电子化学品的研究开发与生产当中一直处于行业领先位置，其核心产品主要包括光刻胶、功能性材料等。

二、新莱应材：

公司的核心产品均能应用于光刻胶设备当中，其客户群体当中就含有光刻胶设备制造商。

三、芯源微：

产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备。

四、亚威股份：

公司与关联方一同出资打造威迈芯材，对韩国WIMAS已经完成了收购计划，该韩国企业主要从事的是半导体化合物的生产开发与销售。

五、华懋科技：

公司旗下持股公司徐州搏康目前为国内重点量产高端光刻胶的企业，在EUV光刻胶领域当中处于国际水平的上游层次。

六、彤程新材：

公司旗下子公司北京科华微电子作为国内仅有的一家拥有荷兰曝光机的中外合资企业，在高档光刻胶自主研发以及量产能力当中也属于国家高新技术企业。

七、苏大维格：

公司作为领先行业的微纳结构生产供应商，已经实现自主研发出光刻机设备，并成立了微纳光学的研发平台，在各类型的产品中为客户提供不同的设计与服务。

八、芯碁微装：

公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务。

九、南大光电：

公司主要核心产品为ArF光刻胶产品，不仅得到了客户的使用认证，还是国内第一只通过验证的国产ArF光刻胶产品。