据报道，荷兰半导体设备制造商ASML近日宣布，计划将其在日本的极紫外光（EUV）芯片工具相关员工人数增加五倍。

ASML的EUV技术被认为是制造下一代高性能芯片的核心。随着全球对高性能芯片需求的快速增长，ASML的扩张不仅能提升其在日本的业务能力，还将助力日本半导体产业的技术升级与人才培养。与此同时，日本本土半导体企业Rapidus正计划启动2纳米工艺的试产，预计本月开始，并力求在2027年前实现全面量产。

ASML的扩张计划正值日本加大对半导体制造领域投入的关键时期，此举也被视为对日本市场潜力的充分肯定。