据宁波前湾新区发布消息，宁波冠石半导体光掩模版制造项目于3月19日举行了新品发布暨通线活动，标志着该项目正式进入投产阶段。
宁波冠石半导体专注于半导体光掩模版的制造。该项目自2023年5月签约以来，进展迅速，同年10月正式开工，并于2024年1月完成主体建设。如今，项目顺利实现通线投产，总投资超过10亿元，亩均投资强度突破1500万元，展现了高效的建设速度。
图源：宁波前湾新区发布
2024年7月，宁波冠石半导体迎来重要进展，成功引入首台电子束掩模版光刻机。该设备是实现40nm技术节点量产以及28nm技术节点研发的核心工具，为提升光掩模版制造能力提供了重要支持。
光掩模版作为半导体制造中光刻工艺的关键图形转移工具，其作用类似于相机的“底片”，是承载芯片设计和工艺技术知识产权的重要载体。目前，我国高精度光掩模版产品仍高度依赖进口，国产化率较低。
宁波冠石半导体目前已实现55nm光掩模版产品的交付，并成功通线40nm产线。其产品将广泛应用于人工智能、高性能计算、新能源汽车以及消费电子等领域的集成电路制造，助力国产半导体产业链的自主化发展。
