俄罗斯计划研发新型曝光机,挑战ASML
来源:ictimes 发布时间:4 小时前 分享至微信
俄罗斯因乌俄战争受到西方制裁,半导体产业发展受限。为此,俄罗斯计划研发新型曝光机,以突破技术封锁。
据悉,俄罗斯将研发成本更低、结构更简单、更容易生产的曝光机设备,使用11.2纳米雷射光,与ASML的13.5纳米标准不同,不兼容现有EUV基础设施。
因此,俄罗斯还需研发反射镜、镀膜、光罩设计等基础设施,以及雷射光源、光阻化学等支持技术。
该计划由俄罗斯科学院微结构物理研究所的Nikolay Chkhalo主导,目标是打造与ASML竞争的产品,但生产与营运成本更低,效能相近。
俄罗斯曝光机采用氙射线,分辨率提升20%,可用于更细致的制程,简化光学元件设计,降低成本,延长关键零组件使用寿命。
尽管吞吐量较小,但预计足以应对小规模制程需求。整个计划预计耗时数年,甚至超过10年。
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