苹果iPhone屏幕下面容ID技术:挑战与未来展望
来源:ictimes 发布时间:1 天前 分享至微信

屏幕下面容ID技术的核心在于将面容识别模块巧妙地隐藏于屏幕之下,实现无孔全面屏的极致体验。这一技术不仅能够提升手机的视觉美感,更能在功能上为用户带来前所未有的便捷与流畅。然而,要实现这一愿景,苹果的主要显示屏供应商——三星显示与LG显示器,正面临严峻的技术挑战。


三星显示与LG显示作为苹果信赖的合作伙伴,其技术实力自然不容小觑。但即便如此,他们在屏幕下面容ID技术的研发上也遇到了难题。红外接收器和发射器的精准集成是关键技术之一,但如何在不影响屏幕显示效果的前提下,将这些组件完美嵌入屏幕下方,成为了摆在两家供应商面前的巨大障碍。


为了克服这一难题,三星显示携手OTI Lumionics,试图通过透明阴极OLED技术来突破。然而,红外激光在穿透屏幕时遭遇的衍射问题,却让这一方案的前景蒙上了一层阴影。另一边,LG显示则选择与LG Innotek合作,采用棱镜光学镜头技术,以期提升光线在屏幕下方的吸收效率。但无论是哪种方案,都尚未达到苹果严苛的商业化标准。


值得注意的是,苹果在探索全面屏的道路上从未止步。从2022年推出的iPhone 14 Pro系列所采用的挖孔显示屏设计,便可窥见其对未来全面屏形态的执着追求。然而,挖孔设计终究只是过渡方案,苹果真正的目标,是实现屏幕下人脸识别乃至屏幕下摄像头的全面普及。


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