在科技创新的浪潮中，中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称：中微公司）于8月2日迎来了其发展历程中的又一高光时刻——“20周年庆典与临港产业化基地落成典礼”盛大举行。这标志着中微公司临港基地正式启用，开启了公司发展的新篇章。

临港产业化基地，这座占地约157亩、总建筑面积高达18万平方米的现代化科技园区，不仅是中微公司实力的象征，更是其向全球半导体及LED芯片制造领域进军的坚实后盾。基地内，顶尖的实验室、高标准洁净室、智能化生产车间及立体仓库等先进设施一应俱全，实现了从生产到管理的全程数字化、智能化，极大地提升了公司的生产效率和创新能力。

作为半导体及LED芯片制造领域的佼佼者，中微公司凭借其在等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备领域的卓越成就，赢得了全球客户的广泛认可。其等离子体刻蚀设备已成功应用于国际一线客户的先进工艺中，而MOCVD设备更是在全球氮化镓基LED市场中占据了领先地位，彰显了中微公司在技术创新和市场拓展方面的强大实力。