铠侠K2厂新进展:9月引新设备,2025年投产NAND Flash
来源:ictimes 发布时间:2024-08-02 分享至微信
日本NAND Flash制造商铠侠(Kioxia)宣布,其位于岩手县北上工厂的K2厂房将于今年9月开始引进新的半导体设备,并计划在2025年正式投产。
此前,由于NAND市场行情低迷,K2厂原定于2023年的投产计划被推迟。随着NAND价格回升和市场需求恢复,铠侠决定加速扩产进程。
K2厂是与威腾电子(WD)合资的项目,投产后将大幅提升NAND产能,以满足生成式AI数据中心SSD等产品的快速增长需求。
此外,铠侠的财务状况也逐步改善,已与日本政策投资银行达成出资延期协议,并获得多家银行提供的贷款延期及追加融资支持,总计金额超过8500亿日元,为公司未来的研发、设备投资及IPO计划提供了坚实的资金保障。
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