新型薄膜半导体横空出世,引领电子科技新纪元
来源:ictimes 发布时间:2024-07-24 分享至微信

近日,国际科研团队在半导体领域取得重大突破,利用三元碲铋矿晶体材料,成功开发出一种超薄晶体薄膜半导体。这款仅100纳米厚的“超级材料”,其电子迁移速度竟高达10000cm²/V-s,是传统硅半导体的7倍,堪称半导体领域的“光速跑车”。


这一技术奇迹得益于先进的分子束外延技术,实现了原子级精度的材料构建,近乎完美的晶体结构极大提升了电子迁移效率。科学家们形象地将此薄膜比作“畅通无阻的高速公路”,预示着更高效、节能的电子设备时代的到来。


展望未来,该薄膜半导体在高效电子设备、热电转换及自旋电子学等领域展现出巨大潜力,有望引领一场电子科技的革命。科研团队正致力于进一步优化制备工艺,力求将材料做得更薄、更完美,以推动其在量子计算、可穿戴设备等前沿领域的广泛应用。麻省理工学院的物理学家Jagadeesh Moodera更是充满信心地表示,这一突破是复杂系统控制技术的胜利,预示着更多技术奇迹的诞生。

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