TEL 的湿式光刻胶旋涂路线
来源:滤波器 发布时间:2024-07-23
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TEL在其年度报告上将极紫外光刻的湿法路线与干法路线进行了对比。TEL首先比较了两种路线所需要的环节,湿法MOR工艺仅需要经过涂胶-曝光-显影,而干法工艺路线涉及了六个环节。

改编自:semianalysis
Lam Research, Tokyo Electron, JSR Battle It Out In The $5B+ EUV Photoresist, Coater, and Developer Market - CAR vs MOR vs Dry Resist
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