全球2nm竞速战:EUV光刻胶供应链或迎重大变局
来源:林慧宇 发布时间:2025-05-04
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据相关报告研究,随着全球半导体先进制造步入2nm竞速阶段,EUV(极紫外光)光刻胶作为核心材料,其供应链正面临新的挑战。近期,美国计划对日系高阶材料增征进口关税,这不仅对供应链竞争格局产生影响,也可能重构材料市场势力版图。
目前,全球光刻胶市场正迎来结构性增长。数据显示,2025年光刻胶市场产值预计达65~70亿美元,占全球半导体材料的8~10%。其中,EUV光刻胶因适用于2nm和3nm制程,年复合增长率高达35%,远超其他成熟产品。与此同时,美国光刻胶市场需求年均增长率达到6%,随着台积电硅谷厂逐步扩产,预计到2027年,美国2nm制程产能将占全球21%,成为战略重点市场。这一需求转变可能促使日系厂商赴美设厂,推动光刻胶供应链本地化。
若美国对日本EUV与ArF光刻胶征收10~25%关税,进口价格将上涨10~24%。以EUV光刻胶每加仑1500美元计算,25%的关税将使成本增加近400美元。然而,由于EUV光刻胶技术门槛极高,台积电、英特尔、三星等先进晶圆制造商仍需依赖日系供应商,如JSR、东京应化和信越化学,才能确保良率与量产进度。这种“被迫接受高成本”的局面,或促使日系厂商调整价格谈判、出货条件及地区设厂策略,从而影响全球特化材料供应链布局。
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