在半导体产业自主可控的浪潮中，宁波冠石半导体有限公司迈出了关键一步。近日，该公司成功引入了国内首台电子束掩模版光刻机，标志着我国在高端半导体制造装备领域取得了重要进展。这一消息由宁波前湾新区管理委员会于7月15日正式发布，无疑为国产半导体产业链注入了强劲动力。

此次引入的光刻机，不仅是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术节点研发的核心设备，更是我国打破国外技术垄断、提升半导体光掩模版国产化率的关键一步。光掩模版作为集成电路制造中的“底片”，其精度和质量直接影响到最终产品的性能和可靠性。长期以来，我国在这一领域高度依赖进口，而冠石半导体的这一举措，无疑为国产光掩模版的自主发展开辟了新的道路。

冠石半导体，作为半导体光掩模版领域的佼佼者，一直致力于45nm至28nm技术节点的规模化生产。其一期洁净车间已具备月产5000片180nm至28nm集成电路掩模版的能力，展现出强劲的生产实力和市场竞争力。随着海外布局战略的加速推进，以及世界一流制造技术的引入，冠石半导体正逐步构建起完善的产业链体系，为国内外客户提供高质量的中高端集成电路掩模版制版服务。