美光CEO Sanjay Mehrotra近日宣布，经过长时间的技术验证与试生产，公司采用极紫外光（EUV）微影技术的1γ DRAM预计将于2025年正式量产。
此前，美光一直采用深紫外光（DUV）微影制程技术，但面对竞争对手纷纷转向EUV技术的趋势，美光也决定紧跟行业步伐。经过长时间的研发与测试，美光成功将EUV技术应用于1γ DRAM的生产，并预计将在2025年实现大规模量产。
这一里程碑的达成，不仅展现了美光在半导体存储技术领域的创新能力，也彰显了其对市场趋势的敏锐洞察和积极应对。
美光对EUV 1γ DRAM制程技术寄予厚望，希望通过这一技术制造出更小、更高效、更具竞争力的DRAM存储器单元。
目前，美光已在日本广岛厂进行EUV 1γ DRAM的试生产，并计划在未来几年内逐步扩大生产规模。
