6月6日消息，ASML将在今年向台积电交付其最先进的光刻机，每台造价3.8亿美元。据报道，ASML首席财务官Roger Dassen在电话会议中表示，台积电和英特尔将在年底前获得高数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统。

英特尔已经订购了这款高NA EUV设备，首台设备已于去年12月底运抵其俄勒冈州工厂。虽然尚不清楚台积电何时会收到设备，但其作为ASML最大的EUV客户，预计交付也在今年内。

这些光刻机每台造价3.5亿欧元，重量相当于两架空中客车A320。ASML是目前全球唯一一家生产极紫外光刻技术的公司，这些设备对于半导体行业至关重要。

台积电已宣布其2nm节点进展顺利，计划于2025下半年推出N3X、N2制程，并在2026下半年量产N2P和A16制程。相比3nm工艺，2nm制程将采用Gate-all-around FETs（GAAFET）晶体管，性能提升10%到15%，功耗降低25%到30%。

在回应华为晶圆代工的积极发展时，台积电董事长刘德音强调，台积电关注的是自身发展速度，并表示华为无法超越台积电。行业专家对此评论，先进光刻机对半导体制造至关重要，没有它们，再强的代工能力也无从发挥。

这次ASML向台积电交付最新光刻机，意味着台积电在先进制程上的持续领先地位，也进一步强化了其在全球半导体市场的竞争力。ASML作为唯一的EUV光刻技术供应商，其设备的重要性和稀缺性也使其在全球半导体供应链中占据关键位置。