近日，武汉光谷实验室携手华中科技大学、武汉光电国家研究中心等科研力量，成功研发出具有划时代意义的胶体量子点成像芯片，该芯片已突破短波红外成像技术壁垒，开启了全新的成像时代。

研究团队在研发过程中攻克了多项技术难关，成功研制出国内首款量子点红外成像样机，部分技术指标已达到国际领先水平。更为值得一提的是，在芯片的中试阶段，团队实现了薄膜涂覆、真空沉积和封装测试等核心生产工艺设备的全面国产化，充分展示了我国在高端制造领域的实力。

目前，这款短波红外成像芯片已经获得了7项专利授权，并积累了来自全国范围内的丰厚订单，多家知名高校和企业纷纷表达了对光谷实验室的合作意向。据胶体量子点短波红外成像芯片项目负责人、华中科技大学武汉光电国家研究中心教授高亮透露，该芯片将首先应用于手机模组和车载相机等消费级场景，未来还将拓展至物质检测、半导体检测和安防监控等高端领域。