ASML High-NA EUV光刻机成功印刷首批图案
来源:ictimes 发布时间:2024-04-22 分享至微信
荷兰阿斯麦(ASML)公司宣布取得重大突破,成功研发出首台采用0.55数值孔径(NA)投影光学系统的高数值孔径(High-NA)极紫外线(EUV)光刻机,并成功印刷出第一批图案。这是ASML及整个高数值孔径EUV微影技术领域的重大里程碑。
目前,全球仅有两台高数值孔径EUV光刻系统,其中一台由ASML在其荷兰总部制造,另一台正在美国英特尔公司的晶圆厂组装。ASML的Twinscan EXE:5000型光刻机将用于研发和技术改进,而英特尔则计划将其用于18A和未来的14A制程产线。
这款新型光刻机实现了8nm的超高分辨率,相比传统低数值孔径系统,可印刷出尺寸更小、电晶体密度更高的图案,无需使用昂贵的双重曝光技术。这对制造3nm以下制程晶片至关重要,有望简化生产流程、提高产量并降低成本。尽管高数值孔径光刻机价格昂贵,且应用过程中面临诸多挑战,但其带来的技术突破无疑将推动半导体产业的持续发展。
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