ASML:第二台High NA EUV光刻机已交付
来源:ictimes 发布时间:2024-04-21 分享至微信
半导体制造巨头ASML成功交付了第二台High NA EUV光刻机,该设备已能成功印刷10nm线宽图案。这一进展标志着芯片制造技术的又一重要突破。据悉,第一台High NA设备已于去年年底至今年初交付给英特尔,而第二家客户的身份目前尚未透露,但潜在客户可能包括台积电或三星电子。
这些先进的光刻机每台价值高达3.7亿美元,预计将助力新一代更小、更快的芯片的研发。ASML透露,已收到10至20台High NA设备的订单,显示出市场对高性能芯片制造设备的强烈需求。
High NA设备使用EUV技术,具有更高的数值孔径,能够印刷更精细的电路图案。据ASML网站称,该设备的理论极限分辨率可达8nm。这一技术的突破将大幅提升单个芯片上可封装的晶体管数量,推动芯片性能迈上新台阶。
[ 新闻来源:ictimes,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论
暂无评论哦,快来评论一下吧!
ictimes
聚焦于半导体行业芯闻
查看更多
相关文章
ASML第二台NA EUV光刻机交付,客户身份保密
2024-04-18
三星与蔡司联手,传ASML第二台High-NA EUV已交付
2024-04-30
ASML High-NA EUV光刻机成功印刷首批图案
2024-04-22
传英特尔包揽下ASML最新EUV光刻机订单
2024-05-08
喜讯!国产光刻机交付!
2024-04-18
热门搜索