至纯科技:湿法清洗设备已在14及7纳米制程实现交付
来源:半导体产业网 发布时间:2023-10-12
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近日,至纯科技在接受机构调研时表示,公司湿法清洗设备可覆盖28纳米全工艺工序段并有重复订单,在14及7纳米制程也有数台订单交付客户,公司在湿法清洗领域可实现国产替代。
据介绍,单片硫酸设备为湿法设备中难度最高的工艺机台,至纯科技S300 SPM机台已交付给多家国内主流晶圆厂,并已经应用于国内头部客户的12英寸逻辑量产线,月产能最高可达6万片次以上。单设备在用户量产线上的累计产量已超过20万片次,是为高阶湿法设备国产替代进口的重要里程碑。至纯科技表示,目前公司是国内单片硫酸设备达到上述单机台量产指标的唯一厂商。
至纯科技同时称,公司湿法设备应用于成熟制程的产品线拓展有序,在部分逻辑用户和第三代半导体用户的产线渗透率持续提高。应用于先进制程的高阶产品线,在订单获取的进度上受到用户扩产进度影响有延后,但在高温硫酸、FINETCH、单片磷酸等尚被国际厂商垄断的机台,公司交付和验证进度都在国内领先。
至纯科技同时从系统集成延伸至盈利能力更强的材料端,2022年初建成国内第一座电子级大宗气供应工厂,目前已稳定运行一年多,每年可贡献稳定的营收,这是国内完全自主建设的第一座ONSITE大宗气供应工厂,至纯科技表示,公司继续在电子气电子化学品方面拓展业务及品类,增加电子材料端的业务投入。
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