什么是接触式/接近式/投影式/步进式光刻机？

其中，步进投影式光刻机（stepper）的一个shot一个shot进行曝光的，并不是一整张晶圆同时曝光，那么stepper的shot是什么样的？多大尺寸？需要多大的掩膜版？

shot是shoot的名词形式，原意是“射击，摄影”。而stepper则是连续不断的一次次地曝光，类似于照相机的按下快门时的闪光。不同的公司和工程师在使用这些术语时存在一些差异，可以指的是一次曝光这种情景，也可以指曝光的区域。每块晶圆需要stepper的很多次曝光，每个shot中包含若干个（≥1）芯片图形，而不是每次曝光只能曝光一个芯片。

常见的晶圆尺寸有4inch（直径100mm），6inch（直径150mm），8inch（直径200mm），12inch（直径300mm）。但是shot的尺寸远远小于晶圆尺寸。shot的尺寸通常是由投影系统的视场大小决定的，不同的stepper的shot尺寸也不同。常见的shot的大小在数平方毫米到5平方厘米之间，一般为矩形或正方形。

如果一个200毫米（8英寸）晶圆的光刻机的shot大小为20mmx20mm，那么可能需要100个shot来完成整个晶圆的曝光（10x10次曝光场）。每次曝光都会在硅片上形成集成电路的一部分，所有的曝光场合在一起构成了整个晶圆的的电路图案。

一般i线stepper使用的是5倍版，即掩膜版上图形尺寸是shot尺寸的5倍。为什么不是一样的呢？为什么大那么多？主要有以下几点：

通过使用更大的图形进行设计，并在实际应用中将其缩小，芯片设计师可以在掩膜版上设计更加复杂和精细的图形，能够在一定程度上减轻制作高精度掩膜版的难度，产生的图形可以更加微小。

虽然大尺寸的掩膜版更昂贵，但是由于能够在上面设计更复杂的图形，其经济价值远远高于制作小尺寸掩膜版的费用。

一个shot map是一整张晶圆的图形和表格，显示了一个晶圆上所有曝光区域的详细布局。shot map将整个晶圆表面划分成多个小矩形区域，这种划分方法可以帮助工程师更容易地监控曝光过程。而每一个小矩形区域被称为一个单元。而在每个单元中，实际曝光区域被称为一个“Shot”。这个区域一般比单元稍小，确保在曝光过程中的能够精确控制，并留有一些操作的余地。

shot noise（散粒噪声），对光刻的影响蛮大，通常来自于光源。在光刻工序中，我们更希望均匀的光强分布。如果Shot Noise引起的光源强度波动过大，可能会影响到曝光的均匀性与精度。