从2015年ASML宣布正式出货，首部支持多重曝光的浸润式微影机台TWINSCAN NXT:1980Di，象徵多重曝光微影技术发展跨入新的里程碑后，金融时报（FT）估计，ASML每年在全球出货的浸润式DUV系统不到100台，其中约20%此前销往国内。

在ASML既有的4种浸润式DUV系统中，除了前述的NXT:1980Di机种外，ASML日前表示，另外3种型号的高端浸润式DUV微影设备，包含TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i将受到列管并被荷兰政府管制出口。

究竟目前国内的晶圆厂，已有多少微影设备导入运作呢？

据Potilico引述荷兰外贸大臣Liesje Schreinemacher日前表示，估计已有数百台ASML DUV机器在国内投入使用，但这同时也包括乾式系统在内。

此外，Schreinemacher也强调，列管的高端浸润式DUV系统，预计每年大约有20个许可证申请，仅占受影响公司（指ASML）总产品组合的有限部分。这个数据，也与外媒估计每年出口国内的高端DUV系统相近。

也就是说，这次荷兰政府新规，首当其冲的将是这每年约20台、ASML出口国内厂商的高端浸润式DUV系统。

南华早报也报导指出，尽管目前TWINSCAN NXT:1980Di，仍允许向国内出货，ASML日前也表示并未遭到列管，但外媒传出，这款能够透过多重曝光、推进10纳米级芯片生产的微影设备，恐将因其美制组件成分，遭到美国政府管制输中。

ASML最近5年来陆续量产出货的高端浸润式DUV曝光机台，分别是2018年出货的Twinscan NXT:2000i DUV，以及分别在2020年与2022年出货的TWINSCAN NXT:2050i与NXT:2100i等3款机种，均能支持10纳米以下先进制程芯片量产，这3种机型如今也在荷兰政府列管名单上。

对此，尽管国内官方试图说服荷兰放弃收紧出口限制，而且其最新的出口管制，似乎也为国内业者使用ASML的NXT: 1980Di微影设备留下空间，但在美国的进一步压力下，这种情况可能会发生变化。

在ASML原先的规划中，在10纳米以下的制程节点，芯片制造商可望同时使用浸润式微影和EUV微影技术，而NXT:1980Di是特别设计来符合这种混合式系统架构，可与EUV相互匹配，达到叠对精度。

即便没有搭配EUV系统，NXT:1980Di本身支持的多重曝光，也能延伸10纳米级的芯片量产。

而在国内晶圆厂约已有数百台ASML DUV机台投入运作，估计装机运行的浸润式机台最多约100多台。在2023年荷兰政府收紧管制后，国内业者仍有人希望国内能够找到一条不同的前进道路。

南华早报引述中芯国际20年老兵、公司资深副总裁韩迪表示，国内必须找到新的方式融入跨境供应链。他表示，传统的产业合作模式，如今面临新的挑战和机遇，他建议国内重点发展芯片材料和零组件，借此发展先进芯片制造能力。