Arm董事会加入高通与英特尔前高管 为IPO准备
来源:今日半导体 发布时间:2022-12-01 分享至微信
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一.Arm董事会加入高通与英特尔前高管 为IPO准备
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二.久日新材:在光刻胶方面已有授权发明专利1项、在审发明申请1项
有投资者在互动平台上提问久日新材称,公司光刻胶专利申请量、国内占比?为加速验证,光刻胶厂家一般有自我验证能力,公司有此能力?为此就要买光刻机,增加成本,光刻机开机成本等同购置成本,像南大光电、晶瑞股份、上海新阳都已购置,公司怎么解决这个问题?国内g线、i线光刻胶自给率约为20%,南大光电已能生产,晶瑞股份、北京科华微等在做,他们的光敏剂PCA来源?久日光刻胶生产与他们优劣、区别在哪?久日光刻胶会否一生产出来,市场需求就基本饱和了?
久日新材回应称,公司在光刻胶方面现已有授权发明专利1项、在审发明申请1项,并储备了部分尚未申请专利的技术。
久日新材指出,公司子公司久日半导体的实验室建设已初具规模,截至目前,已购置相关的实验用光刻机两台,久日半导体将重点从事半导体i-线、g-线光刻胶的研发与制备,以及光刻胶的性能测试。根据中国产业信息网数据显示,近年来全球光刻胶总需求不断增长,尤其是我国光刻胶市场发展速度领跑全球,因此,光刻胶在我国仍然具有很大的应用潜力和市场机遇。
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