
2022年4月热点资讯汇编
【新品发布】
1.瑞能半导体新推出第三代G3 肖特基二极管
瑞能半导体新推出第三代G3 肖特基二极管,电压范围覆45V/65V/100V/150V,产品组合丰富,多种封装 TO220/TO220F/ DPAK 可供客户选用。G3 肖特基二极管,采用新一代的 TMBS 结构设计,实现超低VF和较小IR的完美组合,可以广泛应用于高频 SMPS 电源,PC适配器,照明,车载 DC/DC 转换器。
【投资扩产】
1.中车时代公告扩产6英寸碳化硅芯片产能
4月12日,时代电气发布公告称子公司中车时代半导体拟4.62亿元进行碳化硅芯片生产线技术能力提升建设项目。据披露,该项目建成达产后,将现有平面栅SiC MOSFET芯片技术能力提升到满足沟槽栅SiC MOSFET芯片研发能力,将现有4英寸SiC芯片线提升到6英寸,将现有4英寸SiC芯片线年10000片/年的能力提升到6英寸SiC芯片线25000片/年。
2.天域计划建设国内首条8英寸SiC外延晶片生产线
近日,松山湖管委会官网公布了《东莞市生态园2022年度土地征收成片开发方案》征求意见稿。拟征收地块面积6.316公顷,合计94.7亩,后续将用于保障东莞市天域半导体科技有限公司半导体项目的落地。据披露,天域半导体碳化硅外延材料研发及产业化项目,用于碳化硅外延关键技术的研发及全球首条8英寸碳化硅外延晶片生产线的建设。
3.一期投资100亿元 广东光大科研制造中心项目开工
据《东莞日报》消息,4月22日,东莞在寮步横坑万荣工业智造中心项目现场举行二季度重大项目集中开工活动,纳入二季度集中开工的重大项目共42个,总投资约529亿元。其中,广东光大科研制造中心项目选址东莞市松山湖生态园,位于东莞市东部智能制造和东莞新材料产业基地,项目一期投资100亿元,用地面积约390亩,预计于2025年建成投产,全面达产后销售收入约149.4亿元。项目预期可牵引带动形成第三代半导体产业集群,助力东莞市“十四五”期间建成华南地区第三代半导体材料及应用创新重要基地。
4.天达晶阳:拟扩建400台套完整的碳化硅晶体生产线
为进一步提高碳化硅晶片的产量,天达晶阳碳化硅晶片项目将再投资7.31亿元,建设400台套完整的碳化硅晶体生产线。届时,4-8英寸碳化硅晶片的年产能将达到12万片。
5.中泰恒创&中汇环球签署合作协议:第三代半导体投资加码
4月14日,中泰恒创科技有限公司(以下简称“中泰恒创”)与中汇环球集团有限公司(以下简称“中汇环球”)就“拓展碳化硅SiC芯片市场”项目举行签约仪式。此次中泰恒创与中汇环球的合作主要聚焦于共同拓展碳化硅SiC芯片市场方向。碳化硅SiC的特性在于可经受高压、高温和高辐射,属于第三代半导体的核心材料,应用层面覆盖5G通信和国防军工业这样的高端技术行业,以及许多新能源领域,发展前景十分广阔。
【企业/科研院所动态】
1.士兰微:6寸SiC功率器件芯片生产线预计今年Q3通线
近日,士兰微在接受机构调研时表示,SiC生产线目前还是中试线。公司已着手在厦门士兰明镓公司建设一条6吋SiC功率器件芯片生产线,预计在2022年三季度实现通线。
5.北京大学许福军、沈波团队在高Al组分AlGaN的高效p型掺杂研究中获重要进展
近日,北京大学人工微结构和介观物理国家重点实验室、宽禁带半导体研究中心沈波、许福军团队在高Al组分AlGaN的高效p型掺杂研究中获得重要进展。该研究成果以"Sub-nanometer ultrathin epitaxy of AlGaN and its application in efficient doping"为题在线发表在《Light: Science & Applications》。创新发展了一种“脱附控制超薄层外延”方法,成功实现了厚度为3个原子层(约为0.75 nm)的高Al组分AlGaN的可控外延。
6.韩国本土半导体企业和科研院所组建碳化硅产业联盟
近日,韩国30家本土半导体企业以及大学和研究所将于4月14日组建碳化硅产业联盟,以应对急速增长的碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化镓(Ga2O3)等宽禁带半导体所引领的新型功率半导体市场,从而形成韩国本土碳化硅生态圈。据悉,联盟内的30家韩国功率半导体企业将共同参与材料、零部件、设备用功率半导体的开发,培育与碳化硅半导体相关的材料、零部件和设备企业的发展。
7.半导体所在氮化物材料生长界面研究方面取得新进展
近期,中国科学院半导体研究所照明研发中心与中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室、美国北卡大学、北京大学量子材料科学中心、福州大学物理与信息工程学院科研团队合作,在氮化物材料生长界面生长过程研究上取得新进展。该工作回答了氮化物MOCVD“异质界面构型和原子级沉积过程”这一科学问题;阐明了氮化物晶格极性选择和演进机制;证实了除晶格失配和热失配之外,自然存在的IDBs是氮化物高位错密度的另一重要起因;该工作将为新型极性异质结体系的发展提供理论指导,同时为提高氮化物外延材料的质量、优化大功率及高频器件的击穿特性提供全新的思路和优化方向。
8.美国加州大学晶体管设计获重大突破,可显著降低功耗
近期在《自然》 期刊上所发表的一项研究中,加州大学伯克利分校的研究人员表示,对芯片的晶体管设计有了重大突破。也就是藉由改良其在晶体管的开关中作为关键作用,而被称为闸极氧化层的情况下,可以在不牺牲运算速度、芯片尺寸的情况下大大降低其耗能。
9.北京科技大学刘金龙副研究员:在(111)金刚石衬底上成功制备高性能C-Si MOSFET器件
近日,北京科技大学碳基材料与功能薄膜团队刘金龙副研究员与早稻田大学Hiroshi Kawarada教授课题组合作的最新成果发表在《Applied Surface Science》期刊上。通过在(111)金刚石衬底表面沉积SiO2,在高温还原气体条件下构建了金刚石-硅(C-Si)界面,制备了具有C-Si导电通道的金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET),阈值电压高达-16 V,电流密度为-167 mA/mm,沟道空穴迁移率(μFE)达到200cm2v-1s-1, 界面态密度(Dit)低至3.8×1011cm-2eV-1。
10.中科院物理所8英寸碳化硅单晶研究取得进展
2022年4月25日,中国科学院物理研究所官网发布消息称,由陈小龙研究员团队的成功研制出了单一4H晶型的8英寸SiC晶体,晶坯厚度接近19.6mm;此外,还加工出了厚度约2mm的8英寸SiC晶片。目前,相关工作已申请了三项中国发明专利。
11.罗姆与台达电子合作开发600V GaN元件
4月27日,罗姆宣布与台达电子就第三代半导体GaN(氮化镓)功率器件的开发与量产缔结战略合作伙伴关系。双方将利用台达多年来积累的电源开发技术与罗姆的功率元器件开发和生产技术,联合开发适合更多电源系统的600V耐压GaN功率器件。
12.日立和恩智浦合作开发SiC模块
恩智浦半导体宣布与日立能源合作,以加速 SiC 功率半导体模块在电动汽车领域的采用。该项目旨在为由恩智浦先进的高性能 GD3160 隔离式高压栅极驱动器和日立能源的RoadPak汽车SiC MOSFET功率模块组成的动力总成逆变器提供更高效、可靠和功能安全的基于SiC MOSFET 的解决方案。
【政策】
1.雄安或将建碳化硅器件柔性变电站
2022年国重项目又布局了一个与电网相关的中低压碳化硅项目——“3300-6500V SiC MOSFET器件产品化开发和工程化应用,其应用包括高铁和智能电网两个领域,整体目标是在‘十四五’期间,实现中低压碳化硅器件的商业化量产。”而且国产碳化硅器件的研发也取得了突破性进展,即将在电网中得到示范应用。今年国网将在雄安新区建设一个全碳化硅的电力电子柔性变电站,采用的是全国产的6500V/400A的SiC MOSFET模块。
2.深圳集成电路产业添重量级平台
近日,深圳市集成电路测试验证工程技术中心(简称“IC测试中心”)和深圳市集成电路设计龙岗服务平台(简称“IC设计龙岗平台”)在龙岗区宝龙街道智慧家园正式启动运营。该项目是深圳市科技创新委员会与龙岗区人民政府合作共建的公共技术服务平台,汇聚了国家集成电路设计深圳产业化基地专业性公共技术服务平台优质资源和服务,通过搭建集成电路设计、测试、验证、研发、服务一体化平台,助力龙岗打造集成电路产业特色集聚区。
3.深圳将对集成电路、新材料等专精特新企业机构给予最高1000万补贴资助
4月8日,深圳市人民政府发布了《关于加快培育壮大市场主体的实施意见》(以下简称《意见》),围绕生物医药、医疗器械、集成电路、新材料等重点领域,激发市场主体的发展活力、竞争活力、创新活力,对符合条件的企业给予最高1000万元资助。《意见》自2022年4月8日起施行,有效期至2025年12月31日。
4.安徽、山东接连发利好政策,发展第三代半导体!
4月8日,安徽省发布《安徽省“十四五”新材料产业发展规划》(以下简称《规划》)。《规划》指出,半导体材料方面,将聚焦新能源、先进存储、智能语音、智能电动汽车、下一代显示技术、精准医疗等领域,巩固提升合肥、池州现有半导体材料优势地位,重点发展大尺寸硅片等第一代半导体材料,高纯磷化铟(InP)衬底材料、氮化镓材料等第二/三代半导体材料以及封装测试材料等。
4月6日,山东省政府印发了《“十大创新”2022年行动计划》《“十强产业”2022年行动计划》《“十大扩需求”2022年行动计划》。《十强产业》中表示,将突破一批“卡脖子”技术。聚焦集成电路、高端软件、计算机及外设和智能家电4条产业链。提升碳化硅衬底生产技术水平和市场规模,构建第三代半导体领域新优势。
5.重点突破“卡脖子”关键技术,西电集成电路研究院成立
近日,西安电子科技大学集成电路研究院正式成立。据官方介绍,集成电路研究院院长由朱樟明担任,朱樟明指出,研究院将坚决落实立德树人根本任务,培养行业高层次人才,瞄准“卡脖子”难题、聚力特色研究,助力中国集成电路产业发展,为学校“双一流”建设积极贡献力量。
6.贵州“新政”:加速探索发展第三代半导体
近日,贵州省大数据发展领导小组办公室印发《贵州省“十四五”大数据电子信息产业发展规划》。《规划》明确了主要任务:做强三个基础产业,建设大数据电子信息产业集聚区。其中,在推进电子信息制造业高质量发展中提到,要加强培育发展高端前沿的电子制造产业,探索发展第三代半导体。积极发展碳化硅(SiC)单晶、氮化镓(GaN)晶体等第三代半导体衬底材料及功率器件,拓展面向新型显示、智能终端产品、5G应用、新能源汽车等应用场景,加速第三代半导体射频和功率器件等对传统硅器件的替代。
7.湖南实施强省会战略,建设全国最大碳化硅半导体产业基地
4月20日,湖南省出台《关于实施强省会战略支持长沙市高质量发展的若干意见》,涵盖重点工程、平台支撑、政策支持等方面。加快优势电子信息产业发展,建设国家重要信创产业基地、全国最大碳化硅半导体产业基地和全球北斗产业示范应用基地。加快引进培育一批中高端新能源和智能网联汽车品牌,汽车年产量稳定在100万辆左右。
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