用于毫米波应用的GaN-on-Si(工艺、案例)
来源:宽禁带半导体技术创新联盟 发布时间:2022-04-20 分享至微信
“用于毫米波应用的 GaN-on-Si”,涵盖了用于毫米波应用的 GaN-on-Si 工艺和设计工具,以及用于射频和毫米波应用的 GaN-on-Si 衬底。另一个重点是基于 60 nm GaN-on-Si 的毫米波放大器,用于射频传感和无线通信。

01

用于毫米波前端的

GaN-on-Si 工艺和设计工具

(Rémy Leblanc,OMMIC)


# 为什么选择氮化镓?
• 更高的功率密度
=> 更小的 MMIC 尺寸
• 更高的功率附加效率
=> 更好的热管理
无论如何,微波 GaN 的商业报价是有限的


为什么选择 GaN-on-Si ?
“Si基”的优点:
• 成本低,直径大,与5G兼容
• 进口/出口限制的风险较低
• 与异质集成兼容
“Si基”的缺点:
• 更高的 Rth (≈ x2),但对毫米波中功率的影响有限
• 更高的微波损耗,但影响有限,因为外延很好(0.3dB/mm @30GHz)


# OMMIC D01GH/D006GH GaN-on-Si


02

用于射频传感和无线通信的

60 nm GaN-on-Si 毫米波放大器

(Robert Malmqvist, FOI)


# 大纲
• 介绍
• 60 nm GaN-on-Silicon HEMT 工艺
• 共面波导测试结构(线路和晶体管)
• 制造的 E/W 波段放大器 MMIC 的结果(示例)
• 总结和结论



# 介绍
• 毫米波应用(例如 5G 和短程雷达传感器)将需要紧凑、低成本和高能效的电子波束控制系统(有源相控阵)
• SERENA 项目旨在通过集成硅上氮化镓 (GaN-on-Si) 技术实现高功率和高效率,其输出功率比 SiGe/CMOS 高 10 倍


# 短程雷达传感器(无人机应用)
• 带有 5-6 GHz 雷达传感器单元的小型无人机由 FOI 开发并用于 SAR 测量
• 移至更高频率(毫米波)以使有源相控阵天线能够适应更小的平台


# OMMIC 的 60nm GaN-on-Si 工艺
• OMMIC 开发了 100 nm 和 60 nm GaN-on-Si HEMT 工艺(D01GH 和 D006GH)
• 与 70 nm GaAs mHEMT 工艺 (D007IH) 相比,60 nm GaN-on-Si 工艺在 35 GHz 下具有相当的噪声系数和增益,以及更高的击穿电压/功率处理能力


# 单芯片收发器架构
• 用于 E/W 波段多功能前端的单芯片收发器架构,包括 PA/LNA 和上/下转换器(无线通信和短程雷达应用)
• 本演示文稿的重点是验证制造的 60 nm GaN-on-Si 无源和有源测试电路(传输线、晶体管和放大器电路)


制造的被动测试结构
• 接地共面波导用于防止在 E/W 波段出现不需要的高阶传输模式(基板厚度为 100 mm)
• 测得的传输损耗在 2-110 GHz (≤0.6 dB/mm) 时低于 1.4 dB,在此频率范围内测得的 s11 为 18 dB 或更低(对放大器增益的影响不会太大)



# 有源测试结构
• 2x22 mm HEMT 器件用于高达 E/W 波段 (70-95 GHz) 的高增益/低噪声放大器电路
• 当 VDS=5.5 V 和 IDS=16 mA 时,测得的 s21 在 2-10 dB @ 2-110 GHz 之间
• 以 dB 为单位的测量和模拟 s 参数之间的一致性相对接近(相位偏移稍大)


# 60 nm GaN-on-Si 放大器(1 级)
• 单级低噪声放大器电路,在 T 形接头处具有直流偏置线连接
• 匹配网络包括传输线、电容器和电阻器,以确保无条件稳定性


# 60 nm GaN-on-Si 放大器(1 级)
• 测得的增益为 8 dB @ 74 GHz 和大约 3 dB @ 92-95 GHz (Vd=5.5 V Id=18mA)
• s21 在 92-95 GHz 时略高,而当 Vd=10 V 和 Id=15 mA 时,增益在较低频率下降低
• 与模拟相比,测量的 s11 和 s22 向较低频率偏移


# 60 nm GaN-on-Si 放大器(1 级)
• 使用更高版本的代工厂 PDK 可以在测量结果和模拟结果之间获得更接近的一致性


# 60 nm GaN-on-Si 放大器(2级)
• 级联 2 级低噪声放大器(使用线路和串联电容器实现级间匹配)
• 输出匹配网络稍微短一些,以适应另一个电路


# 60 nm GaN-on-Si 放大器(2级)
• 测得的增益为 16 dB @ 73 GHz 和 5-6 dB @ 92-95 GHz (Vd=5.5 V Id=36 mA)
• 当 Vd=10 V 和 Id=30 mA 时,s21 在 92-95 GHz 时高 1 dB
• 与模拟相比,测量的 s11 和 s22 向较低频率偏移


# 60 nm GaN-on-Si 放大器(2级)
• 使用更高版本的代工厂 PDK 可以在测量结果和模拟结果之间获得更接近的一致性


# 60 nm GaN-on-Si 放大器(2级)
• 在 Id=10 mA 和 Vd=5V/10V 时测得的 NF ≤ 3-4 dB @ 90-95 GHz
• 当 Id 为 20-30 mA(每级 10-15 mA)时,测得的 NF 为 3-5 dB @ 90-99 GHz,以提供更高的放大器增益(当 Vd=10V 和 Id=14 时测量 P1dB=9/13 dBm /28 mA 每级)
• 结果表明 60 nm GaN-on-Si 放大器在高达 95 GHz 时具有 3-5 dB 的测量 NF 的可行性


总结与结论
• 60 nm GaN-on-Si 放大器,在高达 95 GHz 时测得的 NF 和 P1dB 为 3-5 dB 和 9-13 dBm
• 使用代工厂PDK的后期版本,测量/模拟结果更接近一致。
• E/W 波段上/下变频混频器电路和单芯片前端也已在相同的 60 nm GaN-Si 工艺 (D006GH) 中成功验证


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