或许是巧合!12月30日，长江存储的国家存储器基地与华力二期12英寸生产线这两个持续受到业界关注的重大项目，同日举行了开工启动仪式。

　　长江存储是国内最大的存储器项目之一，瞄准3D NAND技术，建成后将扭转我国存储器有市场无产品的窘境;华力微电子12英寸生产线建设项目则是“909工程”的二次升级改造，将建设逻辑芯片的代工生产线，建成后将使我国拥有从0.5微米到14纳米各工艺节点的生产平台，追赶国际先进水平。

　　随着《国家集成电路产业发展推进纲要》的推进，中国IC业掀起一轮高速发展的投资热潮，其中又以晶圆制造为重点发展领域。经过近两年发展，一批重大项目陆续进入开工建设阶段，预计2017年将成为中国IC业的重要建设期。未来随着这些产线的投产，拼技术、工艺、良品率以及成本将成为“主旋律”，也是检验这些项目最终能否成功的关键。

　　两大项目同日开工

　　12月30日，紫光集团联合国家集成电路产业基金、湖北省地方基金、湖北省科投共同投资建设的国家存储器基地项目，在武汉东湖高新区正式动工建设。据了解，此次正式开工建设的国家存储器基地项目位于武汉东湖高新区的武汉未来科技城，将建设3座全球单座洁净面积最大的3D NAND Flash FAB 厂房、1座总部研发大楼和其他若干配套建筑，其核心生产厂房和设备每平方米的投资强度超过3万美元。该项目总投资240亿美元，主要生产存储器芯片，总占地面积1968亩。项目一期计划2018年建成投产，2020年完成整个项目，总产能将达到30万片/月，年产值将超过100亿美元。

　　紫光集团董事长兼长江存储公司董事长赵伟国强调，国家存储器基地正式动工建设不仅仅是一个项目的开工，更具有特别的意义：一是存储器基地项目是中国集成电路存储芯片产业规模化发展“零”的突破，相当于中国科技领域的辽宁号航空母舰出海试航;二是存储器基地项目的运作，是一种新模式的成功探索，这种新模式就是“国家战略推动、地方大力支持、企业市场化运作”的三合一;三是存储器基地项目投资强度大，是中国集成电路行业单体投资最大的项目，也是湖北省最大的投资项目，还是中国最大的单体投资项目。

　　就在同一天，华力微12英寸先进工艺生产线项目也举行了开工仪式。该项目总投资为387亿元，将建设一条月产能4万片的12英寸集成电路芯片生产线，工艺从28纳米起步，最终具备14纳米三维工艺的高性能芯片生产能力。本次开工建设的华力12英寸先进工艺集成电路生产线，是“909工程”的二次升级改造项目，被列为国家《“十三五”集成电路产业重大生产力布局规划》的重点项目，也是“十三五”期间上海最大的产业投资项目。项目建成后，华虹集团将拥有从0.5微米到14纳米各工艺节点的生产平台。根据项目规划，项目将于2017年底完成基建工程，2018年底完成工艺集成、试生产，逐步提高工艺等级和产能并达纲。

　　降低成本是关键

　　由于全球集成电路大厂纷纷看好中国大陆市场，陆续在我国大陆投资设立12英寸厂，包括台积电南京厂、联电厦门厂、英特尔大连厂、三星电子西安厂、力晶合肥厂等，分别覆盖了先进逻辑工艺、NAND Flash、DRAM及LCD驱动IC等产品领域。 而我国集成电路产业目前则面临着严峻的“两个在外”挑战，即集成电路设计企业的产品主要在海外加工;集成电路制造企业的主要业务也在海外。集成电路制造企业的产能和工艺技术能力均不能满足国内设计企业的需求。应对国际竞争，立足提高芯片自制能力，近年来我国集成电路制造企业也在不断谋求产能扩展和工艺技术能力提升，主要厂商接连启动新的扩产计划。

　　本次开工的两个项目具有很强的代表性。存储器是应用最广泛的芯片产品之一，其重要性不在CPU之下，在数据中心大规模建设的推动下，其市场规模还在不断扩大。而晶圆制造则是IC产业链中最重要的环节之一，《国家集成电路产业发展推进纲要》中便强调要以制造为基础，发展我国的IC产业。

　　但是，挑战也十分严峻。有业内人士表示：“长江存储，开工易，研发难;仪式易，做事难;起点易，终点难。”我国在大规模投资建设了这些生产项目之后，如何尽快提高成品率，实现盈亏平衡，将是未来企业需要面对的最重要的考验。根据SEMI的数据，目前处于规划或建设阶段，预计将于2017年～2020年间投产的62座半导体晶圆厂，其中26座设于中国大陆，占全球总数42%。中国集成电路企业在这个市场环境中想要继续运营发展，不断扩大投入是必然之举。但是，关建是要解决积累与扩张的平衡之道，以期尽快解决盈亏平衡问题。

　　半导体专家莫大康也指出，快速降低成本是最关键的一环，特别是对于存储器来说，拼的就是工艺和成本，只有将成品率提上来，成本降下去，发展才具有持续性。“在投产初期，成本至少要控制在国际企业的1～2倍才有希望。否则任何企业也做不到持续投入，经不起长期的亏损。”他说。