Intel以色列厂明年初导入10nm
来源:电子产品世界 发布时间:2016-10-05 分享至微信

  英特尔(Intel Corp.)的晶圆代工制程进度虽然落后台积电(2330),但专家分析,英特尔稳扎稳打,14奈米、10奈米制程今(2016)年底前的扩充进度都相当不错。图为英特尔执行长科再奇(Brian Krzanich)。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/201610/310836.htm

  barron`s.com 3日报导,BlueFin Research Partners分析师Steve Mullane在观察过英特尔各大半导体材料供应商的生产数据后指出,英特尔正在持续减少新墨西哥州Fab 11X厂、亚利桑那州Fab 32厂的产能,而以色列的Fab 28则预备要在明年初导入10奈米制程。

  报告并称,位于奥勒冈、亚利桑那和爱尔兰的三座高产能厂房,14奈米制程的产能还在持续增加中,至于Fab 11X厂的老旧制程则明显降低。

  英特尔才刚在9月发布采用14奈米制程、“Kaby Lake”架构的第七代Core系列处理器,最近还预测7-9月当季营收有望成长15%,以此来看,英特尔在资料中心/物联网(IoT)/记忆体的长期发展依旧相当不错。

  先前有外资指出,台积电的晶圆代工能力,大约比英特尔领先一年。

  barron`s.com 9月27日报导,美系外资发表研究报告指出,台积电在技术、处理ARM制程的能力、晶圆产能、成本结构、生产弹性、资产负债表和整体价值方面,都比英特尔 来得强势。虽然英特尔微处理器的科技、制程都较佳,但晶圆代工能力却落后微处理器制造技术至少两年,因此大概比台积电晚了一年左右。也就是说,英特尔短期 内难以对台积电产生实质威胁。

  相较之下,台积电的10奈米、7奈米制程技术虽落后英特尔,但台积电比英特尔提前1-2年跨入7奈米制程,可藉此缩 短两家公司的差距。台积电在独家封装技术“整合型扇出型封装”(integrated fan-out,InFO)的协助下,有望在2017年、2018年霸占10奈米和7奈米晶圆代工市场。

  WCCFtech 9月25日报导,台积电研发单位已在内部会议中,揭露未来几年的最新研发蓝图,根据几名资深高层的说法,该公司今年底就会转换至10奈米,7奈米则会在明 年试产、估计明年4月就可接单,而16奈米FinFET compact制程(FFC,比16FF+更精密)也将在今年导入。7奈米制程可大幅提升省电效能(时脉约3.8Ghz、核心电压(vcore)达 1V),临界电压(threshold voltage)最低可达0.4V,适用温度约为150度。

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