2026年第一季度，ASML实现净销售额88亿欧元（约合人民币695.2亿元），毛利率53.0%，净利润达28亿欧元（约合人民币221.2亿元）。与此同时，公司管理层上调全年业绩预期，并宣布扩大EUV设备产能。
ASML表示，2026年低数值孔径EUV设备产量目标至少60台；2027年至少达80台。显然，存储厂商如SK海力士、三星、逻辑芯片厂商如台积电、英特尔，均向ASML释放扩产采购意向。
ASML首席执行官傅恪礼介绍，在存储芯片领域，客户反馈2026年已供不应求，且这一态势将延续至2026年以后；先进逻辑芯片领域，客户正针对不同工艺节点持续扩建产能。
从区域市场来看，韩国在2026年第一季度贡献了45%的营收，较之前暴涨23个百分点，位列第一。中国中国台湾地区地区地区占比23%，美国12%，中国大陆19%，其余亚洲地区仅占1%。韩国市场的强势表现，或与三星、SK海力士在全球存储市场短缺情况下加速扩产有关。
此外，ASML的浸润式DUV业务也出现回暖迹象。财务长Roger Dassen透露，尽管2025年该业务需求一度疲软，但后续趋势已明显逆转。这主要得益于客户产能紧张、AI基础设施投资外溢至成熟制程，以及长期产能建设计划的推进。
从应用领域来看，2026年第一季度，ASML设备在存储领域的应用占比达51%，逻辑芯片领域则从2025年第四季度的70%下降至49%。傅恪礼表示，半导体产业正进入由AI驱动的扩张周期，存储芯片领域尤为供不应求。
值得注意的是，路透社最新报道称，美国此前提出的《MATCH法案》最新版本虽删减了部分限制条款，但仍保留对ASML DUV光刻机对华出口的限制，同时对中芯国际、长江存储和长鑫存储等芯片企业设定了供应门槛。这一情况或推动中国大陆晶圆厂提前采购DUV设备。
随着先进制程迈向2纳米以下，High-NA EUV设备将成为关键。台积电和英特尔已采购ASML高端High-NA EUV设备，用于下一代工艺研发。不过，初期量产仍将依赖Low-NA EUV设备，以确保良率表现。因此，High-NA EUV设备的出货高峰预计将在2027年之后才会到来。
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