科创板上市一周年，盛美上海跨入前道涂胶显影光刻领域开启新征程

在新冠疫情、俄乌冲突、通货膨胀等多重因素夹击下，全球经济下行，半导体也正在经历行业低迷期。但是外部环境不确定性增加的情况下，全产业链自主可控需求逐渐超越产业周期，成为未来国产半导体产业的发展主线，相关国产厂商有望迎来持续发展机遇。伴随着全球半导体产业第三次转移的进程，国产半导体设备行业可谓“天时地利人和”，未来有着无限可能。其中，盛美上海是国内企业从国际巨头的垄断中突围的典型例子，其成长也是半导体设备国产化的最实写照。

“半导体芯片制造工艺越来越复杂，逻辑工艺向着2nm、1nm不断缩微；DRAM存储器从当前的1Ynm向着1Znm、1αnm、1βnm工艺节点以下迈进；3D NAND也会由现在的238层，向500层及以上发展。”盛美上海董事长王晖博士在科创板上市周年庆暨新品发布会上指出，“未来的挑战与机会一直存在，关键在于企业是否具有持续创新的能力。如今正值盛美上海科创板上市一周年之际，相信公司未来会在半导体设备的道路上越走越宽，越走越好，向着全球前十大知名半导体设备厂商迈进，为全球半导体产业贡献一份力量。”

科创板上市一周年，技术创新与市场拓展频获佳绩

1998年，王晖与一群清华校友在美国硅谷创立了盛美半导体。随着全球半导体产线重心向亚洲转移，同时半导体工艺缩微，对湿法工艺需求激增，王晖带领公司部分团队成员回国二次创业，在上海投资设立了盛美上海的前身盛美半导体设备（上海）有限公司，选择了清洗设备领域进行攻坚。

SEMI数据显示，2022年全球半导体设备市场规模将达到990亿美元，其中湿法设备为54亿美元，占比6%，前五大湿法设备厂商占据达90%的市场份额。据统计，在国内湿法设备市场，前四大厂商占比达95%以上，其中盛美上海以约30%以上的份额排在第二位，其余三家均为国外厂商。

从2011年，盛美上海获得SK海力士第一笔清洗设备订单，如今已累计交付3000腔湿法设备，成为国内湿法设备领域首屈一指的龙头。盛美上海总经理王坚指出，盛美上海从聚焦单片兆声波清洗设备开始，根据市场需求不断扩展产品业务，到现在形成了集成电路专用清洗系列设备（包括单片、槽式、单片槽式组合清洗、背面清洗、边缘刻蚀清洗、刷洗等）、前道铜互连及先进封装电镀设备、先进封装湿法设备和立式炉管设备等产品。其中，清洗设备以上工艺应用覆盖率已超过80%，未来有望超过90%，全部产品覆盖市场空间达到近85亿美元。盛美上海在电镀设备领域也是国内龙头，是目前唯一国产供应商，公司电镀设备在前后道领域均已成功进入客户端进行量产，销量稳中有升。

2021年11月18日，盛美上海在上交所科创板挂牌上市，开启了公司在中国资本市场发展的新篇章。过去一年里，秉承技术差异化、产品平台化、客户全球化的理念，盛美上海开启了多款新产品持续发布的节奏，加速了国内外市场布局，在技术创新与市场拓展方面双双创下多个佳绩。

王坚表示，首先，“差异化创新战略”的履行推动公司新产品稳步推进。自2021年12月以来，以平均两个月一个新品的速度，相继发布了新型化合物半导体电镀设备、新型化合物半导体系列湿法设备、槽式清洗超低压干燥（ ULD ）技术、全新升级版先进封装用涂胶设备、新型化学机械研磨后（Post-CMP）清洗设备、ALD（热原子层沉积）立式炉设备和湿法金属剥离设备，极大丰富了公司从清洗、电镀、先进封装湿法设备到立式炉管干法设备领域的产品线。

其次，“国内国际双循环相互促进”理念的践行加速国内外市场布局。随着公司不断夯实在国内湿法清洗和电镀设备领域的龙头地位，仅用时13个月，清洗设备累计出货从2000腔提升到3000腔，电镀设备实现了第500腔出机，槽式清洗机和电镀设备都拿到了国内大厂的大批量重复订单。同时，在中国以外的主要半导体制造商的销售取得了良好进展，开拓了全球重量级客户，获得了美国主要国际半导体制造商的12腔SAPS单片清洗设备2台订单，是盛美全球化战略的又一个里程碑。

“盛美上海将秉承‘开放、合作、共赢’的理念，依法合规地加强和国内外客户、国内外供应商的合作；加快两款全新产品开发，提升可服务市场份额；推动临港新片区研发和制造中心竣工投产，扩大公司产能，提升产品质量。”王坚强调，“未来公司将继续凭借已有市场地位、技术优势、工艺积累和行业经验，加大上游零部件企业孵化和培育计划，为建设健康的全球半导体产业生态贡献力量。”

重磅发布涂胶/显影Track设备，跨入前道光刻领域

2017年纳斯达克以及2021年科创板两地上市以来，盛美上海凭借独创性技术和深厚的技术积累，站到了清洗设备行业的技术制高点之上。凭借先进的技术和丰富的产品线，盛美上海已发展成为中国大陆少数具有一定国际竞争力的半导体设备供应商，得到众多国内外主流半导体厂商的认可。随着新的涂胶显影Track设备发布，标志着盛美上海正式跨进半导体前道光刻领域，迈入新的竞赛场，这也是其不断提升在清洗、涂胶和显影领域内专业技术的必然结果。

Gartner数据显示，2022年全球Track设备市场规模达37亿美元左右，中国市场40亿元人民币左右，其中日本一家公司占据了95%市场，因此我们未来成长空间巨大。

王晖介绍，当前主流的Track设备为水平架构，而盛美上海全新的Ultra LITH采用了自主创新的、具有全球专利申请保护的垂直交叉式结构设计，拥有稳定的电控架构和强大的软件系统，且具有更强的可扩张性，可以支持300WPH及未来下一代高产出光刻机400WPH的更高产出需求。

具体来看，Ultra LITH除了上述特点，还包括下面的几大技术优势：

第一，高速稳定的机械手系统，多机械手协同配合，优化晶圆传输路径；

第二，多年在后道封装积累的涂胶显影技术；

第三，强大的清洗技术支持未来浸没式光刻机对硅片背面的颗粒清洗的需求；

第四，优化整机内部气流分布，减少颗粒污染；减少机械手行程，提高传输效率；

第五，自主研发分区控制的高精度热板，达到业界先进水平；

第六，支持主流光刻机接口, 第一台设备出货到客户端就可以和光刻机对接测试。

“今天发布的首款Track设备支持ArF工艺，并将于几周后向中国国内客户交付。我们计划于明年推出i-line型号设备，目前已在生产调试阶段；KrF型号设备也已开始研发。设备验证周期预计需要一年至一年半，在此期间i-line和KrF型号将会同步推出，并且在多个客户中进行平行验证。”王晖表示，“鉴于全球逻辑及存储器制造商正在寻求第二供应商，相信这款全新产品会有巨大的需求潜力。而且在400WPH的高产出速率上，我们与国际行业龙头基本在同一起跑线上。”

他还强调，美国零部件含量在1~3%之间，而且Track设备也不在美国出口管制ECCN编码限制范围内，盛美上海将会严格按照相关法律法规进行合法合规经营。

契机与未来

盛美上海能够开启全新的Track设备品类，得益于公司在后道封装涂胶显影设备上的多年积累。“早在2013年时，盛美上海便研发出了涂胶显影设备，并获得了来自国内封装龙头的第一台订单，并于2014年正式进入客户端。”王晖回忆，“在设备使用的过程中，客户向我们反馈光刻胶cup难以清洗，并且这种物质在人工清洗时对人体有害。为了解决客户这一痛点，盛美团队研发出了全自动清洗技术，这样一来就能避免人工干预，全方位无死角将涂胶腔清洗干净，进一步优化了生产流程。攻克了这一技术难题，我们的涂胶显影设备的订单也开始快速增长。”

随后，一家国际客户因为盛美清洗设备及后道封装涂胶显影设备做的不错，建议盛美考虑进入前道Track这个赛道。在此契机下，盛美上海开始了Track设备研发。“Track这个设备的原理并不难，但是因为要与昂贵的光刻机对接一起使用，光刻机可以停，但是Track不能停。这就要求Track设备的硬件具有良好的可靠性，快速的硅片机械传输系统，特别是可靠的软件系统以及能够智能化处理突发情况的能力。面对这样的挑战，我们就着手研发了。”王晖欣喜说道，Track设备的研发是完全基于自主专利，相关专利共申请了30个，其中授权了14个，都是团队智慧的结晶。“以上是盛美这几年在涂胶显影领域走过的路，路上有荆棘有坎坷，但我们的团队能够披荆斩棘、跨越艰难险阻，创新技术，解决痛点，不断迭代我们的产品，取得一次又一次的突破。”

王晖预期，当Track设备经过验证拿到重复订单后，公司中长期目标是在中国拿下30~40%市场，同时随着海外市场开拓，进一步拿下15~25%的全球份额。他还透露，年底还计划推出另一款产品，预计最新的两款产品可覆盖80亿~100亿美元市场，为此盛美上海所有设备可覆盖的市场将从80~90亿美元左右拓展至180~200亿美元。“这一规模意味着盛美基本占据了全球可服务市场的20%，届时将是公司平台化战略推进的一大里程碑。”

展望未来，在“国外大循环、国内内循环”这样双循环的大形势下，王晖强调盛美上海的目标不仅仅是国内市场，更希望将盛美的技术推向国际市场。“公司的未来不在于现在的规模有多大，而在于有没有持续创新尤其是原始创新的能力，而这正是盛美的基因。Track设备的发布是我们的一个小小里程碑，每一个里程碑都是我们新的起点，我们的未来是星辰大海！”