与台积电等团队合作,大连化物所晶圆六方氮化硼结构研究获进展
来源:爱集微 发布时间:2020-03-17
分享至微信

集微网消息,据中科院报道,近日,中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室研究员,傅强团队与台积电Lain-Jong Li团队、台湾交通大学Wen-Hao Chang团队、美国莱斯大学B. I. Yakobson团队、北京大学教授张艳峰团队合作,在2英寸晶圆衬底上成功外延生长单晶六方氮化硼(hBN)单层薄膜。
据悉,六方氮化硼是一类重要的二维半导体层状材料,如何在晶圆上实现单晶六方氮化硼薄膜的可控生长是六方氮化硼未来应用于集成电路中的关键挑战。对此,研究人员在蓝宝石基底上生长表面取向为(111)的无晶界单晶铜薄膜,以此作为衬底进一步制备完全有序的六方氮化硼晶圆片。
此外,为解决对大面积单层薄膜结构单晶性质的表征和确认这个难题,研究人员借助于实验室自行研制的深紫外激光PEEM/LEEM装备,在1英寸晶圆表面上选取近百个微米尺寸的微区进行结构分析,实验结果证实,六方氮化硼薄膜与Cu(111)衬底表面取向完全一致,确认了该单层薄膜的单晶特性。
据了解,相关成果已在《自然》上发表。同时,该工作还得到国家自然科学基金科学中心项目、中科院战略性先导科技专项B类“能源化学转化的本质与调控”、国家重大科研装备研制项目等资助。(校对/小如)
[ 新闻来源:爱集微,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论
暂无评论哦,快来评论一下吧!

爱集微
开创IC领域,共创美好未来!
查看更多
相关文章
台积电晶圆代工或涨价10%
2025-05-19
台积电和联电2024年晶圆代工薪资调整计划曝光
2025-04-08
台积电将在美国扩建六座晶圆厂
2025-05-08
台积电上调先进制程晶圆价格,2nm涨幅达10%
2025-05-19
英特尔与台积电合作前景遭华尔街质疑
2025-04-05
热门搜索
高通进军数据中心市场
海光信息合并中科曙光
华为
台积电
中芯国际
联发科
高通
英特尔
芯片
