9月29日消息，苏州晶瑞化学股份有限公司（股票简称：晶瑞股份，股票代码：300655）对外发布公告称，公司为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目，拟通过Singtest Technology PTE. LTD.进口韩国 SK Hynix 的 ASML光刻机设备，总价款为1102.5万美元（折合7508万人民币）。公司董事会审议通过了《关于购买设备的议案》，同意授权公司法定代表人或法定代表人指定的授权代理人全权办理相关合同的签署及设备采购事宜。
这样的消息，显然让晶瑞股份获得资本市场的认可，截至发稿前，该公司股价涨停，报于42.86元。
晶瑞股份同时披露，拟发行不超5.5亿元可转债，用于集成电路制造用高端光刻胶研发项目、阳恒化工年产9万吨超大规模集成电路用半导体级高纯硫酸技改项目、补充流动资金或偿还银行贷款。
据公告显示，据晶瑞股份2020年半年报显示，公司上半年归属股东净利润2030.2万元，较去年同期上涨40.61%，总资产20.92亿，较去年同期扩大60.84%。
据了解，晶瑞股份是一家微电子材料的平台型高新技术企业，围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向，主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。
其中，超净高纯试剂是控制颗粒和杂质含量的电子工业用化学试剂，在半导体行业被广泛应用于清洗和蚀刻工段的关键性材料，该类产品对于金属杂质含量的控制有着极其严苛的要求.
目前半导体用的主要高纯化学试剂品种有高纯硫酸、高纯过氧化氢、高纯氨水、高纯盐酸等。超净高纯试剂主要用于半导体、平板显示、LED、光伏太阳能电池等电子信息产品的清洗、蚀刻等工艺环节。
晶瑞股份在半导体材料方面布局的高纯双氧水、高纯氨水及在建的高纯硫酸等产品品质已达到或者可达到SEMI最高等级G5 水准，金属杂质含量均低于10ppt，高纯硫酸产品预计2020年实现投产后，半导体用量最大的三个高纯湿化学品将整体达到国际先进水平，可基本解决高纯化学品这一大类芯片制造材料的本地化供应。
整体来看，晶瑞股份自2001年开始高端双氧水的研发和生产，自主开发了先进的提纯技术，并获得了发明专利。超大规模集成电路用超净高纯双氧水技术突破了国外技术垄断，产品品质可达到10ppt以下，满足SEMI制定的最高纯度等级，成功填补了国内空白。
责编：Yvonne Geng
