近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称“中微公司”，股票代码：688012）宣布其自主研发的12英寸金属刻蚀设备Primo Menova™实现全球首台交付，设备已顺利发往国内一家重要集成电路研发设计及制造服务商。

Primo Menova™是一款专为金属刻蚀设计的ICP单腔设备，特别适用于金属铝线和铝块的刻蚀工艺，广泛应用于功率半导体、存储器件以及先进逻辑芯片制造。该设备基于中微公司量产的ICP刻蚀设备Primo Nanova®研发，具备优异的刻蚀均一性控制能力，支持高速率、高选择比及低底层介质损伤的刻蚀性能。此外，Primo Menova™配备了高效率腔体清洁工艺和高温水蒸气除胶腔室，可有效减少腔室污染并提升运行稳定性，满足客户对高生产效率和高良率的需求。

中微公司长期专注于先进制程工艺的发展，其等离子体刻蚀设备已成功应用于国际一线客户的集成电路生产线，覆盖从65纳米到5纳米及以下的先进制程节点。公司开发的CCP电容性高能等离子体刻蚀机和ICP电感性低能等离子体刻蚀机，能够满足国内95%以上的刻蚀应用需求。截至2024年底，中微公司累计交付超过6000台等离子体刻蚀和化学薄膜设备反应台，覆盖国内外137条生产线。