新型光刻技术初创公司Inversion发力光刻光源
来源:赵辉 发布时间:6 天前 分享至微信
据Y Combinator和相关风险投资公司透露,位于美国加利福尼亚州旧金山的Inversion Semiconductor是一家成立于2024年的初创公司,专注于开发基于粒子加速技术的下一代光刻光源。其目标是提供更明亮且可调节的光源,以显著提升芯片制造效率。

Inversion公司核心技术基于激光尾场加速(LWFA)现象。该技术通过强激光脉冲与等离子体的相互作用,在极短距离内将电子加速至极高能量。其原理类似于冲浪者借助船尾浪涌前行,电子在等离子体波上“冲浪”并持续获得能量提升。据称,这种技术可将传统粒子加速器的体积从千米级缩小至桌面大小(约1米左右),同时实现高达多个GeV的能量级。

通过自由电子激光器,高能电子被引导发射出相干光,波长可精确调节至13.5nm或更低,下一代目标为6.7nm。Inversion公司表示,其光源亮度足以同时为多个晶圆台提供照明,单个光源可配合四台或八台光刻机运行,从而大幅提升制造效率。此外,在相同数值孔径下,该技术可使晶体管密度翻倍,同时实现三倍于现有设备的产能。

Inversion公司由首席执行官Rohan Karthik和首席技术官Daniel Vega创立。两人曾参与“创业先锋”计划,并获得Y Combinator的支持。目前,他们已在旧金山Y Combinator大楼的地下室建立了激光实验室,并计划与劳伦斯伯克利国家实验室合作测试加速器原型。

[ 新闻来源:赵辉,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论

暂无评论哦,快来评论一下吧!