据Y Combinator和相关风险投资公司透露，位于美国加利福尼亚州旧金山的Inversion Semiconductor是一家成立于2024年的初创公司，专注于开发基于粒子加速技术的下一代光刻光源。其目标是提供更明亮且可调节的光源，以显著提升芯片制造效率。
Inversion公司核心技术基于激光尾场加速（LWFA）现象。该技术通过强激光脉冲与等离子体的相互作用，在极短距离内将电子加速至极高能量。其原理类似于冲浪者借助船尾浪涌前行，电子在等离子体波上“冲浪”并持续获得能量提升。据称，这种技术可将传统粒子加速器的体积从千米级缩小至桌面大小（约1米左右），同时实现高达多个GeV的能量级。
通过自由电子激光器，高能电子被引导发射出相干光，波长可精确调节至13.5nm或更低，下一代目标为6.7nm。Inversion公司表示，其光源亮度足以同时为多个晶圆台提供照明，单个光源可配合四台或八台光刻机运行，从而大幅提升制造效率。此外，在相同数值孔径下，该技术可使晶体管密度翻倍，同时实现三倍于现有设备的产能。
Inversion公司由首席执行官Rohan Karthik和首席技术官Daniel Vega创立。两人曾参与“创业先锋”计划，并获得Y Combinator的支持。目前，他们已在旧金山Y Combinator大楼的地下室建立了激光实验室，并计划与劳伦斯伯克利国家实验室合作测试加速器原型。
