英伟达下一代GPU或采用GAA技术,性能提升20%
来源:万德丰 发布时间:5 天前 分享至微信
据外媒Tom’s Hardware报道,英伟达CEO黄仁勋在GTC 2025大会访谈中提到,下一代GPU可能通过环绕栅极(GAA)晶体管技术实现约20%的性能提升。这款GPU预计为2028年推出的Feynman架构。

黄仁勋在访谈中提到,随着摩尔定律的放缓,新制程技术在密度、功率和能效方面的改进空间有限,因此制程节点的变化已不再是决定性因素。他强调,管理大量GPU的效率比单个GPU的原始性能更加重要,特别是在人工智能系统规模不断扩大的背景下。

英伟达通常不会率先采用台积电的最新制程节点,而是选择次新一代的尖端技术。例如,目前英伟达的Ada Lovelace、Hopper和Blackwell架构GPU基于台积电的4nm制程,该制程是5nm节点的改良版。其下一代RuBin架构预计将采用台积电3nm制程,可能是N3P或定制版本。

至于Feynman架构,英伟达可能会使用台积电的N2制程技术,或者其改进版N2P。台积电N2制程预计比N3E性能提升10%-15%,而A16节点制程则计划在2027年投产,具备背面供电功能,性能比N2提升8%-10%。

如果Feynman GPU采用N2P或A16制程,其每瓦性能预计将比基于N3P的RuBin GPU提升20%。不过,面对AI计算的高需求,英伟达似乎更注重性能的最大化,而非单纯追求能耗优化。

[ 新闻来源:万德丰,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论

暂无评论哦,快来评论一下吧!