据日经亚洲援引消息人士透露，中国业者新凯来近年来持续投入半导体制造设备的研发工作，并以ASML、应用材料、科林研发等欧美大厂的产品为标杆。据悉，新凯来与华为保持密切合作，配合其需求开发用于多种制程步骤的设备。

消息人士指出，新凯来在多个研发项目中投入了大量人力，部分项目参与人数达到上百人，甚至上千人。其研发领域涵盖微影、化学与物理气相沉积、原子层沉积、蚀刻以及测量等关键设备。值得注意的是，新凯来甚至宣称已经开发出可用于28纳米芯片制造的关键微影制程设备，但目前尚无法确认其量产能力。

新凯来成立于2021年，由深圳市重大产业投资集团全资控股，后者隶属于深圳市政府。该集团还支持了鹏芯微、升维旭等与华为联系紧密的芯片制造企业。

日前，新凯来在微信平台发文称，将在SEMICON China活动中发布多款新设备。其中包括3月26日亮相的「峨眉山」磊晶制程设备和「武夷山」蚀刻设备，以及27日发布的「长白山」化学气相沉积设备、「普陀山」物理气相沉积设备和「阿里山」原子层沉积设备。

截至目前，新凯来与华为均未对相关传闻作出回应。