绝缘层材料革新:突破AI运算互连效能瓶颈
来源:李智衍 发布时间:2025-03-14
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半导体绝缘层材料成本高且已成为传输速率的瓶颈。随着AI技术蓬勃发展,大型数据中心竞赛持续,能耗与数据传输速率需求激增。
NVIDIA超级AI芯片传输速率已提升至224 Gbps,并向448 Gbps迈进,但散热与互连速率瓶颈凸显。高效能导致高耗电,提升芯片及服务器温度,降低效能。因此,需同时扩充能源供给与降低能耗。
整个供应链都在寻求突破,其中绝缘层材料成为关键。低介电常数(k值)材料能降低能耗,提升数据速率。然而,目前主流绝缘材料k值多在3以上,远非理想值1。
新创企业已研发出k值接近2的材料,获日本厂商关注,并有芯片实测结果。
引入新材料需经过严格测试,确保其物性与化性稳定,且与现有制造流程兼容。尽管面临挑战,但新材料商机巨大。PCB市场年增长率约9%,绝缘层材料占比40%。
半导体封装市场年增长率达15%,2025年先进封装将超传统封装,AI驱动的高端芯片封装市场高速成长。因此,绝缘层材料革新将助力AI运算互连效能提升,迎来广阔发展前景。
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