Nikon开发新型ArF液浸式曝光机,力争市场份额
来源:林慧宇 发布时间:2025-02-20
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Nikon正与芯片制造商合作,开发新平台ArF液浸式曝光机,计划于2028年推出原型机,并计划在2030年后开发后续机型。
该设备特色包括小型化平台、新投影镜头与新晶圆平台,旨在提升运作速度与便利性,并与ASML设备兼容,以便客户转换。
目前,ASML在ArF液浸式曝光机市场中占据9成以上份额,而Nikon的目标是通过新型设备,扩大市场份额。为此,Nikon强调设备的兼容性,如可使用ASML设备用户现有的光罩。
随着DRAM与逻辑IC的3D化发展趋势,Nikon认为新型ArF液浸式曝光机的需求将进一步扩大。公司希望广泛客户,包括台积电、英特尔和三星电子等半导体制造大厂,能使用其新型设备。
此外,Nikon在ArF乾式曝光机市场中拥有超过1成份额,公司希望在ArF液浸式曝光机市场中,实现从个位数百分比到两位数的突破。
除了ArF液浸式曝光机,Nikon还生产KrF曝光机与i线曝光机,投入各种光源曝光机市场。
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