近日，拓荆科技披露了2024年年度业绩预告，预计实现营业收入40亿元至42亿元，同比增长47.88%至55.27%。
作为国内量产型PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等薄膜沉积设备和混合键合设备的领军企业，拓荆科技专注于半导体薄膜沉积设备的自主研发与产业化。凭借在产品技术创新、客户资源、售后服务等方面的核心竞争优势，拓荆科技不断扩大PECVD、ALD等系列产品的量产规模，持续获得客户订单，公司业务规模呈现快速增长趋势。在2024年度，公司出货超过1000个设备反应腔，创下了公司历史年度新高。
除了量产规模的扩大，拓荆科技在研发投入方面也毫不吝啬。2024年前三季度，公司研发投入4.81亿元，同比增长35.73%。高强度的研发投入为拓荆科技带来了丰硕的成果，一系列新产品及新工艺经下游用户验证导入并实现了产业化。同时，新型设备平台及工艺设备也顺利通过客户验证，并取得客户重复订单，实现大批量出货。
值得注意的是，拓荆科技成熟产品的核心技术及关键性能指标均已达到国际同类设备先进水平，并在客户端广泛应用。这一成就与拓荆科技不断加大力度推进产品研发及产业化密不可分。截至2024年6月30日，拓荆科技累计申请专利1279项（含PCT）、获得专利402项，其中今年上半年新增申请专利74项（含PCT）、新增获得专利45项。
