ASML CEO:中国芯片制造受EUV禁令影响,将落后西方10~15年
来源:陈超月 发布时间:2 天前 分享至微信

荷兰ASML公司CEO Christophe Fouquet表示,由于EUV微影设备禁止出口至中国,中国芯片制造能力将落后西方10~15年。尽管中芯国际与华为在芯片研发上取得显著进展,但仍受禁令限制。


基于瓦圣那协定,ASML无法向中国出口EUV设备。中芯国际目前仅能用DUV设备为华为生产7纳米级芯片。


华为及其合作伙伴正在探索EUV技术,预计需10~15年建立自有芯片制造设备及生态系统,而ASML完成这一过程花了20多年。


中国企业不必从头开发所有技术,但一旦开发出低数值孔径EUV设备,西方芯片产业可能已进入高数值孔径时代。更令人担忧的是,中国公司可能在未来几年复制ASML主流DUV设备。


美国政府正要求ASML停止在中国为本地客户维护和维修先进DUV系统,但荷兰政府尚未同意。ASML希望保留对中国设备的控制权,防止敏感信息外泄。

[ 新闻来源:陈超月,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论

暂无评论哦,快来评论一下吧!