JX金属在美投资溅镀靶材新厂,日本母材进口成隐忧
来源:ictimes 发布时间:1 天前 分享至微信

JX金属,日本石油业者ENEOS控股旗下铜冶炼子公司,宣布在美国亚利桑那州投资约1.2亿美元兴建半导体材料新工厂,主要生产溅镀靶材,预计2025年初投产,供应台积电、英特尔等晶圆厂。该工厂占地约26万平方米,产能将增加近1倍。


然而,溅镀靶材的金属母材需在日本生产,若川普2025年1月上任后对海外进口产品实施高关税,可能冲击从日本进口母材的生产模式。


此外,JX金属在日本茨城县也投资1,500亿日圆兴建新工厂,生产溅镀靶材的母材锭块,预计2025年度完工。该公司在溅镀靶材锭块的产能目标是到2027年度增加6成。


虽然JX金属在软性印刷电路板用压延铜箔市场占7成以上,但目前半导体材料的市况更加旺盛。考虑到台积电、Rapidus等厂的需求,JX金属决定集中生产半导体材料,缩减智能手机等相关生产项目。


JX金属已向东京证交所提出IPO申请,预计2025年上市,目标市值7,000亿日圆。该公司正以大规模投资展现其在半导体领域的成长策略。

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