CGD与中国台湾工研院合作共研高性能GaN电源
来源:ictimes 发布时间:2024-05-30
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2024年5月30日,剑桥的Cambridge GaN Devices(CGD)与中国台湾的工业技术研究院(ITRI)在北京达成合作,共同研发高性能GaN电源技术。这次合作旨在打造功率密度超过30 W/in³的140-240 W USB-PD适配器,以应对电动汽车、电动工具、笔记本电脑和手机等市场的迅猛增长。
CGD的Andrea Bricconi表示,与ITRI的合作将展示双方技术融合的高效、紧凑电路板,为市场带来创新。ITRI的Wen-Tien Tsai则对CGD的ICeGaN™系列赞赏有加,认为它简化了电源设计,提高了温度控制和栅极可靠性。
据Yole集团分析,GaN市场预计将迎来爆发式增长,特别是在通信电源、汽车DC/DC转换器和车载充电器等领域。CGD与ITRI的联手,无疑将加速GaN技术在USB-PD适配器市场的应用进程。
CGD作为无晶圆厂环保科技半导体公司,专注于GaN晶体管和IC的研发。而ITRI则是全球知名的应用研究机构,其绿色能源与环境研究实验室(GEL)在能源效率和环保技术方面有着深厚的积累。此次合作,双方将共同推动电源技术的创新与环保发展,为市场带来更加高效、绿色的电源解决方案。
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