瑞萨110纳米制程技术,实现能效显著提升
来源:ictimes 发布时间:2024-05-30 分享至微信

瑞萨电子,半导体技术的领军者,近日推出了先进的110纳米制程技术,标志着低功耗设计领域的一大飞跃。这项技术完美平衡了能效、性能和成本效益,为市场带来了全新的微控制器(MCU)系列。


瑞萨的MF4系列MCU,采用110纳米工艺,相比前代MF3的130纳米技术,实现了性能、能效和功能的显著提升。更小的节点尺寸带来了更高的晶体管密度,让MCU在保持强大功能的同时,实现了更低的功耗和更高的处理速度。


MF4系列MCU还采用了ESF3闪存单元技术,这是基于ESF2技术的升级版本,具备更快的读取速度、更高效的编程和擦除操作,以及更佳的数据完整性。这一技术突破为开发人员提供了更可靠、高效的闪存解决方案。


瑞萨对MF4系列MCU的长期稳定性也充满信心,承诺未来15年内提供长期支持和兼容性。这确保了开发人员可以放心地采用这一技术,为长期项目提供坚实的硬件支持。


基于MF4的MCU在IP区域大小和读取速度方面也有显著优势。与MF3相比,MF4在相同闪存区域下实现了30%的尺寸缩减,并提供了超过48 MHz的更快读取速度。这使得开发人员能够在更小的尺寸内实现更强大的功能,并提升系统性能。


瑞萨的MF4系列MCU,包括RL78/G2x、RX100和RA2等器件,凭借110纳米制程技术和ESF3闪存单元技术,为开发人员带来了前所未有的能效和性能体验。拥抱这一技术,将助您在设计领域取得更大的成功!


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