中微公司近日迎来重大里程碑，其第3000台CCP刻蚀设备反应腔成功付运至国内领先的半导体芯片制造商。这一成就标志着中微公司刻蚀设备在性能、稳定性和量产能力方面得到广泛认可。

自推出首台CCP刻蚀设备以来，中微公司不断拓展产品线，以满足芯片制造的高技术要求。其刻蚀设备系列涵盖多种应用，为65纳米至5纳米及以下工艺提供全面解决方案。此外，中微公司的ICP和TSV设备也在国内外生产线实现量产，展现出强大的市场竞争力。

中微公司凭借技术创新和差异化设计，在半导体前道设备行业占据优势地位。近年来，公司营业收入持续增长，刻蚀设备销售更是迅猛增长。公司新增订单金额也实现大幅增长，显示出强劲的市场需求。

中微公司董事丛海表示，公司紧跟先进制程工艺前沿，强调创新和差异化，赢得了客户青睐。未来，中微将继续贯彻企业文化，为客户提供卓越、高效的高端设备产品，推动半导体产业发展。