尽管美国祭出芯片出口禁令，中国仍持续扩大成熟制程芯片的生产。报导称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28奈米浸润式光刻机，也突显出中国芯片产业正迅速扩张。

在近2年来，中国国产光刻机持续在发展，不过相关进展却有所保密，官宣消息很少。但如今，官方证实了光刻机进展的消息，也意味着中国在光刻机的研制方面出现了实质性的突破。上海微电子有望藉此制程工艺技术也直接感超日本佳能、尼康厂商，成为继荷兰ASML后，全球第二个先进光刻机巨头。

值得注意的是，华为也在光刻机技术上也在积极投入，并取得了成果，象是在去年底就披露了名为「反射镜、光刻装置及其控制方法」的专利，涉及到EUV光刻关键技术。

事实上，中国在光刻机技术在世界市领先的一方，该国在1965年研制出了65型接触式光刻机，1985年研制出的分步光刻机样机，当时与国外先进水平差距不超过7年，但此后，为了以最快速度赶上世界先进芯片制造水平，中国开始自国外购买光刻机。

上海微电子副董事长贺荣明带领的上海微电子，可以说是中国企业在光刻机走向自主的努力的一个缩影。近年来，在光刻机全球产业链中，涌现了多家中国制造商，包括光刻机光源系统厂商福晶科技、涂胶显影厂商富创精密、光刻胶厂商南大光电、光刻气体厂商华特气体等。

其中，富创精密也是全球为数不多的能够量产应用于7奈米工艺制程半导体设备的精密零组件制造商。针对国产化议题，富创精密也曾表示，公司将在既有产品基础上逐步实现半导体设备精密零组件的国产化。

来源：钜亨网