荷兰政府正计划宣布扩大出口管制，进一步限制向国内出口半导体设备，相关公告预计最早将于6月底或7月初发布。

彭博(Bloomberg)引述消息人士表示，这些限制预计不会提及国内或ASML等特定实体，但预计会限制包括 ASML制造的深紫外光(DUV)曝光机在内的高科技设备的销售。

据彭博先前报导，这些限制预计将阻挡包括TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 和 NXT:2100i 等机种向国内出货，这些型号都是浸润式DUV机种。ASML从2019年起，已被荷兰政府禁止向国内公司出售其最尖端的极紫外光刻(EUV)设备。

荷兰外贸大臣Liesje Schreinemacher在3月份曾表示，荷兰出于国家和国际安全的考量，有必要尽快控制这项技术。

消息人士透露，荷兰立法者已起草了出口管制法规，其他欧盟国家可以根据该模板，实施出口限制。

ASML发言人向外媒The Register证实，相关规定并不是新规定，而是与2023年稍早宣布的规定相同，具体细节仍处于保密状态，等待荷兰当局的最终指引。

ASML 表示，荷兰政府在正式宣布扩大出口管制措施后，预计ASML将需要申请出口许可证，才能运输最先进的浸润式DUV系统，该公司预计将包括其 NXT:2000i 装置以及后续的浸润式机种，但具体管制仍有待当局布达。

不过，ASML预计这些限制不会对其2023年的业绩展望，或ASML先前所概述的长期经营情况，产生重大影响。

ASML在2023年第一季，净利达到20亿欧元(约合21.9亿美元)，营收为67亿欧元(约合73亿美元)，远高于2022年同期营收35亿欧元(约合38亿美元)。

ASML表示，主要关注成熟制程生产节点(通常指40纳米以上)的客户，可以采用「非高端」的浸润式微影设备，取得很好的效果。但这是否也暗示了，荷兰政府此番扩大限制的高端DUV微影设备，恐将影响国内半导体制造商在40纳米以下节点的芯片生产？其影响程度恐怕仍须相关业者揭露。

尤其是国内晶圆代工业者包括一线大厂中芯国际在内，此前在被断供EUV微影设备之后，由于无法向先进制程7/5纳米节点推进，中芯扩大投资在28纳米以上节点产能增，包括北京、天津、上海、深圳等地均扩建28纳米产能。

未来若果真受到荷兰政府管制ASML销售高端DUV系统输中，是否将冲击中芯在28纳米制程的扩产进度？也有待相关业者说明。