据外媒报道，ASML的首席执行官Peter Wennink周三表示，当中国被限制购买国外制造的科技产品时，它寻求开发自己的半导体设备是 "合乎逻辑的"。ASML是欧洲市值最大的科技公司，在光刻机方面占据了全球绝对领先的地位。

上周，该公司发布了强劲的第一季度收益财报，并表示中国的销售额将增加，因为中国的芯片制造商急于购买不属于美国主导的限制旧工具，传荷兰政府说它将在3月采取这种限制。

Wennink在周三举行的ASML年会上说，他并不担心日本、美国或中国的竞争对手会接近打造尖端的商业光刻产品。"但这当然会发生，所以我们能继续拥有中国的市场准入权是绝对必要的"，中国是全球最大的芯片市场。"他说："市场准入对我们来说和对我们的中国客户一样重要。

他说，美国、中国和欧洲的补贴等政策将导致产能增加，并导致更多的过剩和短缺，如新冠疫情导致的短缺和目前的供应过剩。但Wennink说，全球芯片市场仍将翻番，到本世纪末达到1.0万亿-1.2万亿美元。

他说，中国大陆是ASML的第三大市场（仅次于中国台湾省和韩国）有一家不愿透露姓名的汽车制造商，计划在未来三年内生产更多的电动汽车，这将需要 "六到七个成熟的逻辑工艺半导体晶圆厂"，而这些晶圆厂没有开建。

在这之前，ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。

所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。

ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。

ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。

理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。

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