荷兰本周宣布将对半导体技术和设备出口实施更多管制，知情人士透露，这项计划将阻止艾司摩尔ASML向中国出售另外三种型号的深紫外光 (DUV) 光刻机台。

彭博引述知情人士说法报导，荷兰的最新限制措施可能影响包含「TWINSCAN NXT:2000i」、「NXT:2050i」和「NXT:2100i」的出货，上述型号都属于浸润式DUV设备。

针对上述报导，ASML 发言人提到本周稍早发布的公司声明。

ASML 周三 (8 日) 表示，虽然没有取得政府公开声明以外，有关最新出口管制的其他讯息，但据该公司解读，最新禁令可能包含 TWINSCAN NXT:2000i 以及后续推出的浸润式 DUV 设备。

在与其他技术搭配使用下，浸润式光刻设备的应用相当广泛，可用于生产军事硬件、智慧手机等商品所需的先进半导体。

因美国施压，荷兰政府从 2019 年开始禁止艾司摩尔ASML向中国出口最先进的极紫外光刻 (EUV) 设备，但仍可销售上一代的 DUV 机台。

荷兰政府发言人拒绝对彭博报导置评。

来源：钜亨网