华为申请自主EUV技术相关专利，凸显国内欲摆脱美先进半导体制造制裁的制约。法新社

华为（Huawei）在2021年5月13日曾向国内大陆国家知识产权局，申请称为「反射镜、光刻装置及其控制方法」新专利，为与EUV设备有关新专利，国内国家知识产权局并于2022年11月15日公布这项专利申请。

监于国内正面临美国联邦政府传出正在寻求结盟荷兰，欲就ASML的EUV设备出口国内进行管制，等于是扼杀国内自主发展7纳米以下先进晶圆制程量产的唯一道路，如今华为申请自主EUV相关技术专利的消息公诸于世，是否代表国内即将能够摆脱对ASML的EUV设备依赖？而华为也即将能够开发出自主技术EUV设备？

从EUV设备生产的复杂度来看，或许没有那么容易。更何况，这项专利申请还尚未获得批准，难以判断华为是否已具备生产整套EUV设备的能力。

但有分析认为，华为此次申请可用于EUV半导体设备的技术专利，凸显华为挑战ASML EUV设备垄断的决心。这项专利申请，相当于国内半导体技术自给化向前迈进一步，也意谓华为未来可望持续投入更多能量在研发相关半导体制造设备上。

不只华为，国内有多个研究机构都在进行与EUV设备相关研发工作。

华为为了达到EUV设备商用化里程，投入重要技术难题的克服，Techspot报导对此次华为申请的专利内容，给予肯定评价。华为开始自主正式研发EUV相关技术，反映出国内积极应对美国寻求管制EUV设备出口国内这一措施的态度。

但值得关注的是，高端EUV设备的研发、生产势必需要长期投入，非短期可达成，且这也并非华为首次申请与EUV设备有关的技术专利。

实际上华为早在2016年就曾投入微影设备研发，并于国内国家知识产权局公布一种微影设备和微影系统的专利案。凸显华为投入微影设备技术研发已有多年。

责任编辑：张兴民