世界先进0.35um 650V氮化镓制程正式量产
来源:宽禁带半导体技术创新联盟 发布时间:2022-11-23 分享至微信
11月22日,世界先进宣布,其领先的八英寸0.35微米650 V的新基底高电压氮化镓制程(GaN-on-QST)已于客户端完成首批产品系统及可靠性验证,正式进入量产,为特殊集成电路制造服务领域首家量产此技术的公司。
世界先进指出,2018年以Qromis基板技术(简称QST TM)进行八英寸QST基板的0.35微米650 V GaN-on-QST制程开发,于今年第一季开发完成,于第四季成功量产,世界先进同时已和海内外整合元件制造(IDM)厂及IC设计公司展开合作。
据悉,世界先进0.35微米650 V GaN-on-QST制程除了650 V的元件选择外,也提供内建静电保护元件(ESD),客户得以更便利的进行设计选择。此外,该制程除具备更优异的可靠性与信赖性,针对更高电压(超过1000 V)的扩充性,世界先进也已经与部分客户展开合作,以满足客户的产品需求。
日前,世界先进公布了2022年Q3业绩,公司第三季合并营收约为新台币133.28亿元(约合人民币30.22亿元),同比增加12.2 %;毛利率约为45.0%,营业利益率则约为33.4%。

来源:化合物半导体市场

[ 新闻来源:宽禁带半导体技术创新联盟,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论

暂无评论哦,快来评论一下吧!