ASML研发更先进光刻机，高数值孔径极紫外光刻设计基本完成科技 新闻 电子技术
来源:一号芯闻 发布时间:2022-08-28 
分享至微信
分享至微信Video Player is loading.
This is a modal window.
The media could not be loaded, either because the server or network failed or because the format is not supported.
[ 新闻来源：一号芯闻，更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议，请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论
暂无评论哦，快来评论一下吧！
一号芯闻
开创IC领域，共创美好未来!
查看更多
相关视频
ASML正研发更先进光刻机，目标2035年需求
2025-06-27
ASML高数值孔径EUV设备，全球仅交付五台
2025-06-05
ASML研发5纳米分辨率Hyper NA光刻机
2025-06-30
美国加征关税，或致ASML光刻机成本上涨
2025-07-17
热门搜索
大联大调整！诠鼎、友尚、品佳，3合1
台积电拟退出氮化镓市场
华为
台积电
中芯国际
联发科
高通
英特尔
芯片