ASML是一家光刻机供应商，目前支持7纳米以下工艺的EUV光刻机，就是来自ASML，事实上，ASML的崛起，与EUV光刻机有着直接的关系。

由于目前只有ASML一家可以制造EUV光刻机，所以ASML一度对自己在该领域的技术深感自豪，甚至有一些高傲。

因为之前ASML方面就对外表示，即使公开EUV光刻机的图纸别人也造不出来。

由于近几年一直是ASML独家供应EUV光刻机，所以这让ASML收获颇丰，根据其财报数据来看，其光刻机销售收入中，EUV光刻机的营收占比已经接近一半。

但是如果大家了解ASML在EUV光刻机上的发展史，就会知道，ASML只不过是一个“幸运儿”。

在1997年，美国成立了EUV LLC联盟，该联盟汇聚了美国三大国家实验室、数百位顶尖科学家和AMD、英特尔、IBM等多家美国科技巨头。

而ASML被同意加入，尼康则被拒绝。

事实上，在EUV光刻机最重要的光源上，其提供商就是一家美国公司，也就是cymer，所以EUV光刻机的主要技术，其实来自美国，而并非是ASML。

但现在事情出现了新情况，根据外媒报道，在EUV LLC联盟成立的25年后，美日之间突然联合宣布，将会在尖端半导体制造设备上展开合作。

熟悉半导体制造设备的朋友应该知道，美国在光刻机之外的其他设备领域，几乎全部涉及，美国的应用材料、拉姆研究都是该领域的市场巨头。

而日本则是仅次于荷兰的光刻机制造国，尼康和佳能曾经也是全球的光刻机巨头，尼康甚至是全球第一。

想必大家还记得，前段时间，佳能就宣布将在2023年量产3D光刻机，实际上，尼康和佳能都在探索另一条不需要EUV的光刻机道路。

除了佳能的3D光刻机，佳能早在5年前就开始研发NIL技术，该技术同样可以用于制造先进工艺芯片，但是成本只有EUV的40%。

此外，尼康之前也宣布，将会在2023年量产NSR-S636E光刻机，该光刻机不采用EUV技术，但同样可以支持5纳米工艺。

所以我们看到，这次美日联合宣布在尖端半导体制造设备上的合作，无疑将会提升尼康和佳能在光刻机上的实力。

重要的关键点在于，这对EUV光刻机将会造成现实的市场威胁，ASML将不再是独家供应，而且ASML还将失去成本优势。

要知道，ASML的下一代EUV光刻机，已经将售价翻倍，提升到3亿美元一台，而上文中我们也提到，佳能的技术可以只需要ASML成本的40%。

也就是说，购买两台ASML的EUV光刻机的价钱，就可以购买5台佳能的先进光刻机。

之前就有美院士表示，ASML的时代正在过去，难道美院士的话说对了？

那么美院士的话是否会应验呢？

现在来看，可能性很大，因为日本方面还有另外的优势，那就是半导体材料。

相信有的朋友还记得，之前日本方面还对韩国进行过制裁，制裁的方法就是停止供应半导体材料，包括高纯度氟化氢、氟聚酰亚胺以及光刻胶。

此外，在光刻机另一个重要部件透镜上，尼康和佳能也都拥有不俗的实力，其产品全部为自己研发。

而ASML则是需要依靠德国的蔡司，细数ASML的发展历程，其多次关键发展都离不开蔡司的身影，27年前，ASML总裁就表示：蔡司成了ASML发展的瓶颈。

在EUV光刻机上，现在依然如此，之前ASML方面就表示，下一代EUV光刻机的发展需要大数值孔径的镜头。

显然，ASML的发展瓶颈再次落到了蔡司身上。

因此综合对比来看，如果尼康和佳能像25年前的ASML一样，得到了美国的技术支持，那么ASML恐难再高傲了，而ASML或许已经成为“弃子”。

那么为什么会这样呢？或许是ASML缺乏创新。

是的，虽然ASML制造了全球唯一的EUV光刻机，但是该技术的贡献者却是美国。

事实上，EUV光刻机也并非是一个创新的产品，其沿用的依然是传统光刻机的路线，即通过更短波长的光源和更大数值孔径的镜头，来不断提升光刻机的分辨率。

EUV光刻机之所以被关注，只是因为EUV光刻机的相关配件制造难度较大，当然，我们也承认ASML的光刻机制造能力，但是仅限于整合能力，而并非是创新能力。

但是尼康和佳能则不然，上文中已经有所介绍，像NIL光刻机，已经被誉为第三代光刻机技术。

第一代为接触/接近式光刻机，第二代为步进扫描投影式光刻机，ASML的EUV光刻机就是该类型。

所以综合来看，或许美院士的话在理，ASML虽然引领了一个时代，但是属于ASML的时代正在过去，这或许就是缺乏创新的结果。

对此大家怎么看呢？欢迎评论区一起讨论发言。